电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2014年
5期
7-10,18
,共5页
硅通孔%关键设备%铜填充
硅通孔%關鍵設備%銅填充
규통공%관건설비%동전충
论述了TSV技术发展面临的设备问题,并重点介绍了深硅刻蚀、CVD/PVD沉积、电镀铜填充、晶圆减薄、晶圆键合等几种制约我国TSV技术发展的关键设备.
論述瞭TSV技術髮展麵臨的設備問題,併重點介紹瞭深硅刻蝕、CVD/PVD沉積、電鍍銅填充、晶圓減薄、晶圓鍵閤等幾種製約我國TSV技術髮展的關鍵設備.
논술료TSV기술발전면림적설비문제,병중점개소료심규각식、CVD/PVD침적、전도동전충、정원감박、정원건합등궤충제약아국TSV기술발전적관건설비.