电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2013年
5期
19-22
,共4页
李佳%魏唯%何华云%宁宗娥
李佳%魏唯%何華雲%寧宗娥
리가%위유%하화운%저종아
超高真空化学气相沉积%锗硅%热场
超高真空化學氣相沉積%鍺硅%熱場
초고진공화학기상침적%타규%열장
介绍了超高真空化学气相沉积(UHVCVD)锗硅外延设备的加热室设计方法,完善了相关的炉体设计,相关温度指标达到设计标准.
介紹瞭超高真空化學氣相沉積(UHVCVD)鍺硅外延設備的加熱室設計方法,完善瞭相關的爐體設計,相關溫度指標達到設計標準.
개소료초고진공화학기상침적(UHVCVD)타규외연설비적가열실설계방법,완선료상관적로체설계,상관온도지표체도설계표준.
