电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2013年
5期
4-8
,共5页
宽禁带半导体%碳化硅%氮化镓%离子注入机%关键设备
寬禁帶半導體%碳化硅%氮化鎵%離子註入機%關鍵設備
관금대반도체%탄화규%담화가%리자주입궤%관건설비
宽禁带半导体设备技术是宽禁带半导体器件的支撑和重要基础.简要介绍了宽禁带半导体器件发展面临的设备问题,重点介绍了碳化硅晶体生长炉、碳化硅外延生长炉、碳化硅离子注入机和氮化镓MOCVD四种制约我国宽禁带半导体器件技术发展的关键设备,指出了宽禁带半导体设备技术的未来发展趋势.
寬禁帶半導體設備技術是寬禁帶半導體器件的支撐和重要基礎.簡要介紹瞭寬禁帶半導體器件髮展麵臨的設備問題,重點介紹瞭碳化硅晶體生長爐、碳化硅外延生長爐、碳化硅離子註入機和氮化鎵MOCVD四種製約我國寬禁帶半導體器件技術髮展的關鍵設備,指齣瞭寬禁帶半導體設備技術的未來髮展趨勢.
관금대반도체설비기술시관금대반도체기건적지탱화중요기출.간요개소료관금대반도체기건발전면림적설비문제,중점개소료탄화규정체생장로、탄화규외연생장로、탄화규리자주입궤화담화가MOCVD사충제약아국관금대반도체기건기술발전적관건설비,지출료관금대반도체설비기술적미래발전추세.
