人工晶体学报
人工晶體學報
인공정체학보
2012年
4期
1102-1106
,共5页
樊志琴%李瑞%蔡根旺%张君德%王建星
樊誌琴%李瑞%蔡根旺%張君德%王建星
번지금%리서%채근왕%장군덕%왕건성
碳纳米管%MPCVD%场发射%拉曼光谱
碳納米管%MPCVD%場髮射%拉曼光譜
탄납미관%MPCVD%장발사%랍만광보
carbon nanotube%MPCVD%field emission%Raman spectroscopy
利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法,在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜.研究碳纳米管膜在放电过程中对其场发射性能的影响.通过XPS、Raman光谱等手段,分析碳纳米管膜在放电过程中sp2碳和sp3碳含量的变化,对碳纳米管膜场发射性能变化的根源进行研究.结果显示,在放电过程中,碳纳米管膜中sp2碳的含量减少,场发射性能变差.经过分析,我们认为发生这种现象的原因是:发射电子主要是从sp2碳发出的,sp2碳的减少直接影响了发射电子的减少,故其场发射性能降低.
利用微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)方法,在不鏽鋼襯底上直接沉積碳納米管膜.研究碳納米管膜在放電過程中對其場髮射性能的影響.通過XPS、Raman光譜等手段,分析碳納米管膜在放電過程中sp2碳和sp3碳含量的變化,對碳納米管膜場髮射性能變化的根源進行研究.結果顯示,在放電過程中,碳納米管膜中sp2碳的含量減少,場髮射性能變差.經過分析,我們認為髮生這種現象的原因是:髮射電子主要是從sp2碳髮齣的,sp2碳的減少直接影響瞭髮射電子的減少,故其場髮射性能降低.
이용미파등리자체화학기상침적(MPCVD)방법,재불수강츤저상직접침적탄납미관막.연구탄납미관막재방전과정중대기장발사성능적영향.통과XPS、Raman광보등수단,분석탄납미관막재방전과정중sp2탄화sp3탄함량적변화,대탄납미관막장발사성능변화적근원진행연구.결과현시,재방전과정중,탄납미관막중sp2탄적함량감소,장발사성능변차.경과분석,아문인위발생저충현상적원인시:발사전자주요시종sp2탄발출적,sp2탄적감소직접영향료발사전자적감소,고기장발사성능강저.
