人工晶体学报
人工晶體學報
인공정체학보
2012年
4期
1030-1036
,共7页
夏焕雄%向东%牟鹏%姜崴%葛研%王丽丹
夏煥雄%嚮東%牟鵬%薑崴%葛研%王麗丹
하환웅%향동%모붕%강외%갈연%왕려단
等离子辅助化学气相沉积%多孔介质%气流仿真%稳流室
等離子輔助化學氣相沉積%多孔介質%氣流倣真%穩流室
등리자보조화학기상침적%다공개질%기류방진%은류실
等离子辅助化学气相沉积(PECVD)腔室的气流分布、温度分布是影响薄膜沉积工艺均匀性以及沉积速率的重要原因之一.本文对PECVD腔室气流建立连续流体和传热模型,研究了腔室内流场和温度分布特性；讨论了四种不同稳流室结构的PECVD腔室,在加热盘恒温400℃、质量流量5000 sccm、抽气口压力133 Pa的工艺条件下12英寸晶圆片附近上方流速、压力、温度分布情况；选择了其中一种稳流室结构作了多种质量流量( 20 ～ 5000 sccm)入口条件下的流场分析.仿真研究发现:在抽气口位置偏置的情况下,四种不同稳流室结构的腔室内热流场并未出现明显偏置,这表明抽气口偏置对工艺均匀性没有明显影响.加热盘附近上方2 mm处温度场大面均匀、稳定,且随入口质量流量变化波动很小,表现出良好的稳定性；气压分布呈现中心高边缘低的抛物线特征,流速呈现中心低边缘高的线性特征,且晶圆片附近以及喷淋头( Showerhead)入口压力和流速均随着入口质量流量的增加而升高.研究结果对PECVD腔室结构设计及工艺控制具有重要意义.
等離子輔助化學氣相沉積(PECVD)腔室的氣流分佈、溫度分佈是影響薄膜沉積工藝均勻性以及沉積速率的重要原因之一.本文對PECVD腔室氣流建立連續流體和傳熱模型,研究瞭腔室內流場和溫度分佈特性；討論瞭四種不同穩流室結構的PECVD腔室,在加熱盤恆溫400℃、質量流量5000 sccm、抽氣口壓力133 Pa的工藝條件下12英吋晶圓片附近上方流速、壓力、溫度分佈情況；選擇瞭其中一種穩流室結構作瞭多種質量流量( 20 ～ 5000 sccm)入口條件下的流場分析.倣真研究髮現:在抽氣口位置偏置的情況下,四種不同穩流室結構的腔室內熱流場併未齣現明顯偏置,這錶明抽氣口偏置對工藝均勻性沒有明顯影響.加熱盤附近上方2 mm處溫度場大麵均勻、穩定,且隨入口質量流量變化波動很小,錶現齣良好的穩定性；氣壓分佈呈現中心高邊緣低的拋物線特徵,流速呈現中心低邊緣高的線性特徵,且晶圓片附近以及噴淋頭( Showerhead)入口壓力和流速均隨著入口質量流量的增加而升高.研究結果對PECVD腔室結構設計及工藝控製具有重要意義.
등리자보조화학기상침적(PECVD)강실적기류분포、온도분포시영향박막침적공예균균성이급침적속솔적중요원인지일.본문대PECVD강실기류건립련속류체화전열모형,연구료강실내류장화온도분포특성；토론료사충불동은류실결구적PECVD강실,재가열반항온400℃、질량류량5000 sccm、추기구압력133 Pa적공예조건하12영촌정원편부근상방류속、압력、온도분포정황；선택료기중일충은류실결구작료다충질량류량( 20 ～ 5000 sccm)입구조건하적류장분석.방진연구발현:재추기구위치편치적정황하,사충불동은류실결구적강실내열류장병미출현명현편치,저표명추기구편치대공예균균성몰유명현영향.가열반부근상방2 mm처온도장대면균균、은정,차수입구질량류량변화파동흔소,표현출량호적은정성；기압분포정현중심고변연저적포물선특정,류속정현중심저변연고적선성특정,차정원편부근이급분림두( Showerhead)입구압력화류속균수착입구질량류량적증가이승고.연구결과대PECVD강실결구설계급공예공제구유중요의의.
