中国钼业
中國鉬業
중국목업
CHINA MOLYBDENUM INDUSTRY
2012年
5期
37-40
,共4页
吴思诚%王旋%范海波%郑新亮%姚合宝%赵宝华
吳思誠%王鏇%範海波%鄭新亮%姚閤寶%趙寶華
오사성%왕선%범해파%정신량%요합보%조보화
磁控溅射%ZnO薄膜%Mo薄膜%缓冲层
磁控濺射%ZnO薄膜%Mo薄膜%緩遲層
자공천사%ZnO박막%Mo박막%완충층
ZnO薄膜材料作为一种新兴的材料,在半导体光电子领域有着广泛的应用前景.本文利用磁控溅射法在Si衬底上先生长一层Mo缓冲层,然后在Mo缓冲层上制备ZnO薄膜.通过性能对比发现,Mo缓冲层对于ZnO的结晶性能和发光性能的提高具有明显的改善作用.
ZnO薄膜材料作為一種新興的材料,在半導體光電子領域有著廣汎的應用前景.本文利用磁控濺射法在Si襯底上先生長一層Mo緩遲層,然後在Mo緩遲層上製備ZnO薄膜.通過性能對比髮現,Mo緩遲層對于ZnO的結晶性能和髮光性能的提高具有明顯的改善作用.
ZnO박막재료작위일충신흥적재료,재반도체광전자영역유착엄범적응용전경.본문이용자공천사법재Si츤저상선생장일층Mo완충층,연후재Mo완충층상제비ZnO박막.통과성능대비발현,Mo완충층대우ZnO적결정성능화발광성능적제고구유명현적개선작용.
