稀有金属材料与工程
稀有金屬材料與工程
희유금속재료여공정
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERNG
2012年
9期
1586-1591
,共6页
秦铁男%马立群%姚妍%解瑞%丁毅
秦鐵男%馬立群%姚妍%解瑞%丁毅
진철남%마립군%요연%해서%정의
AZ31镁合金%化学镀镍%氢氟酸活化%阻抗
AZ31鎂閤金%化學鍍鎳%氫氟痠活化%阻抗
AZ31미합금%화학도얼%경불산활화%조항
采用混合电位-时间曲线、极化曲线和电化学阻抗谱,研究经不同浓度氢氟酸活化处理后的AZ31变形镁合金在化学镀镀液中的电化学行为,并通过扫描电子显微镜(SEM)观察AZ31活化前后的形貌变化.结果表明,经活化的试样在化学镀过程中被镀层完全覆盖,所用时间随着氢氟酸浓度的增加而延长；镀液中的镍离子被还原的起始电位随着氢氟酸浓度的增加而向正偏移；电极/镀液界面反应的电荷转移电阻随着氢氟酸浓度的增加而增大,并且电极/镀液界面反应是化学镀初始沉积期的控制步骤；AZ31镁合金基体中的Mn-Al相在氢氟酸活化过程中的颗粒脱落是导致氟化膜产生缺陷的主要原因,氢氟酸浓度越高,氟化膜缺陷越少.
採用混閤電位-時間麯線、極化麯線和電化學阻抗譜,研究經不同濃度氫氟痠活化處理後的AZ31變形鎂閤金在化學鍍鍍液中的電化學行為,併通過掃描電子顯微鏡(SEM)觀察AZ31活化前後的形貌變化.結果錶明,經活化的試樣在化學鍍過程中被鍍層完全覆蓋,所用時間隨著氫氟痠濃度的增加而延長；鍍液中的鎳離子被還原的起始電位隨著氫氟痠濃度的增加而嚮正偏移；電極/鍍液界麵反應的電荷轉移電阻隨著氫氟痠濃度的增加而增大,併且電極/鍍液界麵反應是化學鍍初始沉積期的控製步驟；AZ31鎂閤金基體中的Mn-Al相在氫氟痠活化過程中的顆粒脫落是導緻氟化膜產生缺陷的主要原因,氫氟痠濃度越高,氟化膜缺陷越少.
채용혼합전위-시간곡선、겁화곡선화전화학조항보,연구경불동농도경불산활화처리후적AZ31변형미합금재화학도도액중적전화학행위,병통과소묘전자현미경(SEM)관찰AZ31활화전후적형모변화.결과표명,경활화적시양재화학도과정중피도층완전복개,소용시간수착경불산농도적증가이연장；도액중적얼리자피환원적기시전위수착경불산농도적증가이향정편이；전겁/도액계면반응적전하전이전조수착경불산농도적증가이증대,병차전겁/도액계면반응시화학도초시침적기적공제보취；AZ31미합금기체중적Mn-Al상재경불산활화과정중적과립탈락시도치불화막산생결함적주요원인,경불산농도월고,불화막결함월소.
