强激光与粒子束
彊激光與粒子束
강격광여입자속
HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
2012年
11期
2673-2676
,共4页
硅基支撑系统%光刻%线宽偏差%正交试验%BP神经网络
硅基支撐繫統%光刻%線寬偏差%正交試驗%BP神經網絡
규기지탱계통%광각%선관편차%정교시험%BP신경망락
为提高硅基支持系统制备中光刻过程的线宽精度,用正交试验分析了前烘、曝光、显影主要步骤中一些主要参数对制备结果的影响,得到了它们的影响程度的规律以及较优的参数组合.在此基础上设计和训练了合适的前向误差反向传播神经网络,对主要工艺参数进行了进一步的分析、预测和优选,并用实验加以验证.最终得到在胶厚约1.55μm时,前烘温度100℃,时间90 s；曝光时间5 s；显影温度15℃,时间90 s时,光刻后图形的线宽偏差最小,达到了0.3μm以下.
為提高硅基支持繫統製備中光刻過程的線寬精度,用正交試驗分析瞭前烘、曝光、顯影主要步驟中一些主要參數對製備結果的影響,得到瞭它們的影響程度的規律以及較優的參數組閤.在此基礎上設計和訓練瞭閤適的前嚮誤差反嚮傳播神經網絡,對主要工藝參數進行瞭進一步的分析、預測和優選,併用實驗加以驗證.最終得到在膠厚約1.55μm時,前烘溫度100℃,時間90 s；曝光時間5 s；顯影溫度15℃,時間90 s時,光刻後圖形的線寬偏差最小,達到瞭0.3μm以下.
위제고규기지지계통제비중광각과정적선관정도,용정교시험분석료전홍、폭광、현영주요보취중일사주요삼수대제비결과적영향,득도료타문적영향정도적규률이급교우적삼수조합.재차기출상설계화훈련료합괄적전향오차반향전파신경망락,대주요공예삼수진행료진일보적분석、예측화우선,병용실험가이험증.최종득도재효후약1.55μm시,전홍온도100℃,시간90 s；폭광시간5 s；현영온도15℃,시간90 s시,광각후도형적선관편차최소,체도료0.3μm이하.
