光谱实验室
光譜實驗室
광보실험실
CHINESE JOURNAL OF SPECTROSCOPY LABORATORY
2013年
5期
2469-2471
,共3页
吕艳阳%魏亚婵%熊英%张小雨
呂豔暘%魏亞嬋%熊英%張小雨
려염양%위아선%웅영%장소우
铕(Ⅲ)%铽(Ⅲ)%四(3,4-亚甲二氧基苯基)卟啉%荧光猝灭
銪(Ⅲ)%鋱(Ⅲ)%四(3,4-亞甲二氧基苯基)卟啉%熒光猝滅
유(Ⅲ)%특(Ⅲ)%사(3,4-아갑이양기분기)계람%형광졸멸
通过荧光光谱法研究了铕(Ⅲ)、铽(Ⅲ)两种稀土离子对四(3,4-亚甲二氧基苯基)卟啉(TMPP)荧光强度的影响.在中性介质中,铕(Ⅲ)和铽(Ⅲ)与TMPP相互作用使TMPP的荧光猝灭.实验表明:以DMF为溶剂、420 nm为最大激发波长、655nm为最大发射波长时,TMPP的荧光强度和稀土离子对其荧光猝灭均达到最大值.
通過熒光光譜法研究瞭銪(Ⅲ)、鋱(Ⅲ)兩種稀土離子對四(3,4-亞甲二氧基苯基)卟啉(TMPP)熒光彊度的影響.在中性介質中,銪(Ⅲ)和鋱(Ⅲ)與TMPP相互作用使TMPP的熒光猝滅.實驗錶明:以DMF為溶劑、420 nm為最大激髮波長、655nm為最大髮射波長時,TMPP的熒光彊度和稀土離子對其熒光猝滅均達到最大值.
통과형광광보법연구료유(Ⅲ)、특(Ⅲ)량충희토리자대사(3,4-아갑이양기분기)계람(TMPP)형광강도적영향.재중성개질중,유(Ⅲ)화특(Ⅲ)여TMPP상호작용사TMPP적형광졸멸.실험표명:이DMF위용제、420 nm위최대격발파장、655nm위최대발사파장시,TMPP적형광강도화희토리자대기형광졸멸균체도최대치.
