CAJ | 학술논문

在玻璃衬底上利用磁控溅射法制备AZO／Cu／AZO多层薄膜，研究了溅射功率对AZO薄膜的微观结构和光电性能的影响。采用X射线衍射（XRD）仪、扫描电子显微镜（SEM）、紫外可见光谱仪（UVVis）等方法，对AZO薄膜的形貌结构、光电学性能进行了测试。结果表明：不同溅射功率下沉积的AZO薄膜均呈C轴择优取向，溅射功率对AZO／cu／AZO多层薄膜结构与光电性能有一定的影响。在溅射功率为120W、衬底温度为2500C、溅射气压为0．5Pa时薄膜的光透过率为75％，最低电阻率为2．2×10-4Ω·cm、结晶质量、表面形貌等得到明显改善。
재파리츤저상이용자공천사법제비AZO／Cu／AZO다층박막，연구료천사공솔대AZO박막적미관결구화광전성능적영향。채용X사선연사（XRD）의、소묘전자현미경（SEM）、자외가견광보의（UVVis）등방법，대AZO박막적형모결구、광전학성능진행료측시。결과표명：불동천사공솔하침적적AZO박막균정C축택우취향，천사공솔대AZO／cu／AZO다층박막결구여광전성능유일정적영향。재천사공솔위120W、츤저온도위2500C、천사기압위0．5Pa시박막적광투과솔위75％，최저전조솔위2．2×10-4Ω·cm、결정질량、표면형모등득도명현개선。