CAJ | 학술논문

采用有机金属化合物化学气相沉积法(MOCVD)在浮法玻璃上沉积了F掺杂的氧化锡薄膜,制备低辐射镀膜玻璃,并在高温电阻炉和钢化炉内分别进行热处理和钢化实验,对不同条件下的电学性能进行了研究.采用XPS和AES对薄膜中[O]/[Sn]平均含量的变化进行了分析.结果表明,在650℃之内,表面电阻没有发生明显改变,但此后快速上升至86.68Ω□；薄膜O和Sn的含量不符合化学计量比,[O]/[Sn]比均小于1.20;随着热处理温度的提高和时间的延长,薄膜中O含量有所提高,与表面电阻的变化趋势接近.
채용유궤금속화합물화학기상침적법(MOCVD)재부법파리상침적료F참잡적양화석박막,제비저복사도막파리,병재고온전조로화강화로내분별진행열처리화강화실험,대불동조건하적전학성능진행료연구.채용XPS화AES대박막중[O]/[Sn]평균함량적변화진행료분석.결과표명,재650℃지내,표면전조몰유발생명현개변,단차후쾌속상승지86.68Ω□；박막O화Sn적함량불부합화학계량비,[O]/[Sn]비균소우1.20;수착열처리온도적제고화시간적연장,박막중O함량유소제고,여표면전조적변화추세접근.