山东建筑大学学报
山東建築大學學報
산동건축대학학보
JOURNAL OF SHANDONG JIANZHU UNIVERSITY
2012年
6期
575-578
,共4页
陈志华%王凤翔%宋红莲%张秀全%孙舒宁
陳誌華%王鳳翔%宋紅蓮%張秀全%孫舒寧
진지화%왕봉상%송홍련%장수전%손서저
TiO2薄膜%磁控溅射%溅射压强%沉积速率%晶粒尺寸
TiO2薄膜%磁控濺射%濺射壓彊%沉積速率%晶粒呎吋
TiO2박막%자공천사%천사압강%침적속솔%정립척촌
用射频磁控溅射技术在双面抛光的石英玻璃(SiO2)基底上沉积Er3+/Yb3+掺杂的TiO2薄膜,利用RBS背散射分析技术和X射线衍射技术研究溅射压强对薄膜结构性质的影响.结果表明:随着压强增加,成膜速率缓慢下降,且压强增大到一定数值之后对成膜速率的影响会逐渐减弱;随着压强增加,薄膜晶粒变大,晶粒间界变小,晶化质量提高.当溅射压强2.0Pa时,晶粒尺寸最大为64nm;适当降低溅射压强有利于提高薄膜的沉积速率,但是压强值也不能过小,否则会影响薄膜的晶粒尺寸大小,降低薄膜的结晶质量.
用射頻磁控濺射技術在雙麵拋光的石英玻璃(SiO2)基底上沉積Er3+/Yb3+摻雜的TiO2薄膜,利用RBS揹散射分析技術和X射線衍射技術研究濺射壓彊對薄膜結構性質的影響.結果錶明:隨著壓彊增加,成膜速率緩慢下降,且壓彊增大到一定數值之後對成膜速率的影響會逐漸減弱;隨著壓彊增加,薄膜晶粒變大,晶粒間界變小,晶化質量提高.噹濺射壓彊2.0Pa時,晶粒呎吋最大為64nm;適噹降低濺射壓彊有利于提高薄膜的沉積速率,但是壓彊值也不能過小,否則會影響薄膜的晶粒呎吋大小,降低薄膜的結晶質量.
용사빈자공천사기술재쌍면포광적석영파리(SiO2)기저상침적Er3+/Yb3+참잡적TiO2박막,이용RBS배산사분석기술화X사선연사기술연구천사압강대박막결구성질적영향.결과표명:수착압강증가,성막속솔완만하강,차압강증대도일정수치지후대성막속솔적영향회축점감약;수착압강증가,박막정립변대,정립간계변소,정화질량제고.당천사압강2.0Pa시,정립척촌최대위64nm;괄당강저천사압강유리우제고박막적침적속솔,단시압강치야불능과소,부칙회영향박막적정립척촌대소,강저박막적결정질량.
