化学工程与装备
化學工程與裝備
화학공정여장비
CHEMICAL ENGINEERING & EQUIPMENT
2012年
5期
105-109
,共5页
在位清洗%CIP配置%发展前景
在位清洗%CIP配置%髮展前景
재위청세%CIP배치%발전전경
在药品生产过程中，设备清洗是生产工艺流程中一个很重要的环节，尤其在“换批”、“更换品种”与“清场”时更为重要。然而，过去药品生产过程中设备清洗仅依靠拆洗或移动方法予以清洗，随着现代制药设备的发展，已出现了大量在位清洗的设备，现存的或正在研发的清洗系统的功能是否真实与可靠？这将是我们在一定时期内所探讨的一个问题。
在藥品生產過程中，設備清洗是生產工藝流程中一箇很重要的環節，尤其在“換批”、“更換品種”與“清場”時更為重要。然而，過去藥品生產過程中設備清洗僅依靠拆洗或移動方法予以清洗，隨著現代製藥設備的髮展，已齣現瞭大量在位清洗的設備，現存的或正在研髮的清洗繫統的功能是否真實與可靠？這將是我們在一定時期內所探討的一箇問題。
재약품생산과정중，설비청세시생산공예류정중일개흔중요적배절，우기재“환비”、“경환품충”여“청장”시경위중요。연이，과거약품생산과정중설비청세부의고탁세혹이동방법여이청세，수착현대제약설비적발전，이출현료대량재위청세적설비，현존적혹정재연발적청세계통적공능시부진실여가고？저장시아문재일정시기내소탐토적일개문제。
