光学精密工程
光學精密工程
광학정밀공정
OPTICS AND PRECISION ENGINEERING
2013年
4期
858-863
,共6页
薄膜参数测量%折射率测量%膜厚测量%模拟退火算法%MgF2
薄膜參數測量%摺射率測量%膜厚測量%模擬退火算法%MgF2
박막삼수측량%절사솔측량%막후측량%모의퇴화산법%MgF2
研究了确定单层MgF2薄膜的物理厚度及其在深紫外/真空紫外波段折射率的方法.首先,利用钼舟热蒸发工艺在B270基底上制备了单层MgF2薄膜.然后,依据MgF2单层膜在不同入射角下的反射光谱,采用模拟退火方法确定了MgF2薄膜在170～260 nm波段的折射率和物理厚度,并与由椭圆偏振法确定的薄膜参数进行了比较.实验显示,采用模拟退火和椭圆偏振两种方法确定的MgF2薄膜厚度分别为248.5 nm和249.5 nm,偏差为0.4％；而用上述两种方法在240～260 nm波段确定的单层MgF2薄膜的折射率偏差均小于0.003.得到的结果证实了依据不同入射角下的反射光谱,用模拟退火方法确定MgF2薄膜厚度和折射率的可靠性.
研究瞭確定單層MgF2薄膜的物理厚度及其在深紫外/真空紫外波段摺射率的方法.首先,利用鉬舟熱蒸髮工藝在B270基底上製備瞭單層MgF2薄膜.然後,依據MgF2單層膜在不同入射角下的反射光譜,採用模擬退火方法確定瞭MgF2薄膜在170～260 nm波段的摺射率和物理厚度,併與由橢圓偏振法確定的薄膜參數進行瞭比較.實驗顯示,採用模擬退火和橢圓偏振兩種方法確定的MgF2薄膜厚度分彆為248.5 nm和249.5 nm,偏差為0.4％；而用上述兩種方法在240～260 nm波段確定的單層MgF2薄膜的摺射率偏差均小于0.003.得到的結果證實瞭依據不同入射角下的反射光譜,用模擬退火方法確定MgF2薄膜厚度和摺射率的可靠性.
연구료학정단층MgF2박막적물리후도급기재심자외/진공자외파단절사솔적방법.수선,이용목주열증발공예재B270기저상제비료단층MgF2박막.연후,의거MgF2단층막재불동입사각하적반사광보,채용모의퇴화방법학정료MgF2박막재170～260 nm파단적절사솔화물리후도,병여유타원편진법학정적박막삼수진행료비교.실험현시,채용모의퇴화화타원편진량충방법학정적MgF2박막후도분별위248.5 nm화249.5 nm,편차위0.4％；이용상술량충방법재240～260 nm파단학정적단층MgF2박막적절사솔편차균소우0.003.득도적결과증실료의거불동입사각하적반사광보,용모의퇴화방법학정MgF2박막후도화절사솔적가고성.
