材料导报
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재료도보
MATERIALS REVIEW
2013年
8期
40-43
,共4页
李想%颜钟惠%刘阳辉%竺立强
李想%顏鐘惠%劉暘輝%竺立彊
리상%안종혜%류양휘%축립강
太阳能电池%晶体硅钝化%原子层沉积%Al2O3薄膜
太暘能電池%晶體硅鈍化%原子層沉積%Al2O3薄膜
태양능전지%정체규둔화%원자층침적%Al2O3박막
以三甲基铝(TMA)和水为反应源,采用原子层沉积(ALD)技术在n型单晶硅表面沉积15 nm、30 nm和100 nm的Al2O3薄膜,并对样品进行快速退火(RTA)处理.采用少子寿命测试仪测试样品的有效少子寿命,获得了表面复合速率(SRV),通过X射线光电子能谱(XPS)分析了薄膜的化学成分,在此基础上研究了薄膜厚度及退火条件对钝化效果的影响,并分析了钝化机理.结果表明:ALD技术制备的Al2O3薄膜经退火后可使n型单晶硅SRV值降低到7 cm/s,表面钝化效果显著.
以三甲基鋁(TMA)和水為反應源,採用原子層沉積(ALD)技術在n型單晶硅錶麵沉積15 nm、30 nm和100 nm的Al2O3薄膜,併對樣品進行快速退火(RTA)處理.採用少子壽命測試儀測試樣品的有效少子壽命,穫得瞭錶麵複閤速率(SRV),通過X射線光電子能譜(XPS)分析瞭薄膜的化學成分,在此基礎上研究瞭薄膜厚度及退火條件對鈍化效果的影響,併分析瞭鈍化機理.結果錶明:ALD技術製備的Al2O3薄膜經退火後可使n型單晶硅SRV值降低到7 cm/s,錶麵鈍化效果顯著.
이삼갑기려(TMA)화수위반응원,채용원자층침적(ALD)기술재n형단정규표면침적15 nm、30 nm화100 nm적Al2O3박막,병대양품진행쾌속퇴화(RTA)처리.채용소자수명측시의측시양품적유효소자수명,획득료표면복합속솔(SRV),통과X사선광전자능보(XPS)분석료박막적화학성분,재차기출상연구료박막후도급퇴화조건대둔화효과적영향,병분석료둔화궤리.결과표명:ALD기술제비적Al2O3박막경퇴화후가사n형단정규SRV치강저도7 cm/s,표면둔화효과현저.
