电镀与精饰
電鍍與精飾
전도여정식
PLATING & FINISHING
2013年
1期
34-37
,共4页
齐建新%李琴%钟思云%钟林峰%曾得锦%但晴华
齊建新%李琴%鐘思雲%鐘林峰%曾得錦%但晴華
제건신%리금%종사운%종림봉%증득금%단청화
复合电镀%Ni-SiC复合镀层%SiC微粒
複閤電鍍%Ni-SiC複閤鍍層%SiC微粒
복합전도%Ni-SiC복합도층%SiC미립
采用复合电镀工艺制备了Ni-SiC复合镀层,研究了电流密度、镀液温度、pH、镀液中SiC、十二烷基硫酸钠和硫酸钴质量浓度对镀层中SiC的影响.确定了最佳工艺参数,Jk为1.2 A/dm2,θ为40℃,pH为4.2,20 g/L SiC,0.1 g/L十二烷基硫酸钠,采用该工艺可以获得复合镀层中SiC质量分数较高且镀层结合力较好的复合镀层.
採用複閤電鍍工藝製備瞭Ni-SiC複閤鍍層,研究瞭電流密度、鍍液溫度、pH、鍍液中SiC、十二烷基硫痠鈉和硫痠鈷質量濃度對鍍層中SiC的影響.確定瞭最佳工藝參數,Jk為1.2 A/dm2,θ為40℃,pH為4.2,20 g/L SiC,0.1 g/L十二烷基硫痠鈉,採用該工藝可以穫得複閤鍍層中SiC質量分數較高且鍍層結閤力較好的複閤鍍層.
채용복합전도공예제비료Ni-SiC복합도층,연구료전류밀도、도액온도、pH、도액중SiC、십이완기류산납화류산고질량농도대도층중SiC적영향.학정료최가공예삼수,Jk위1.2 A/dm2,θ위40℃,pH위4.2,20 g/L SiC,0.1 g/L십이완기류산납,채용해공예가이획득복합도층중SiC질량분수교고차도층결합력교호적복합도층.
