中国有色金属学报（英文版）
中國有色金屬學報（英文版）
중국유색금속학보（영문판）
TRANSACTIONS OF NONFERROUS METALS SOCIETY OF CHINA
2012年
8期
1981-1988
,共8页
周小卫%沈以赴%靳惠明%郑莹莹
週小衛%瀋以赴%靳惠明%鄭瑩瑩
주소위%침이부%근혜명%정형형
Ni-P镀层%脉冲电沉积%过电电势%沉积机理%CeO2
Ni-P鍍層%脈遲電沉積%過電電勢%沉積機理%CeO2
Ni-P도층%맥충전침적%과전전세%침적궤리%CeO2
Ni-P coating%pulse electrodeposition%overpotential%depositional mechanism%CeO2
利用双脉冲电流特性与超声场高频振荡效应电沉积法制备Ni-P/n-CeO2纳米复合镀层.借助环境扫描电镜(E-SEM/EDXA)、透射电子显微镜(TEM)及X射线衍射仪(XRD),对镀层微观形貌、化学成分及晶体结构进行分析.结果表明:掺杂15 g/L纳米CeO2 (RE)颗粒,稀土Ce含量与沉积速度分别可达2.3％和68 μm/h,晶粒致密,呈现非晶态;在600℃下时效处理2h,复合镀层的显微硬度高达HV780.讨论了纳米稀土颗粒吸附特性与脉冲过电势对电沉积机理的影响.Ce4+或n-CeO2吸附在阴极活性表面形成大量具有催化作用的晶核,沉积并钉扎在开裂的纹裂源边缘.在高温时效时,纳米颗粒与部分Ni晶粒充分弥散互溶,占据空间,阻碍晶粒粗化及裂纹扩展,从而有效提高复合镀层的裂纹扩展抗力与显微硬度.
利用雙脈遲電流特性與超聲場高頻振盪效應電沉積法製備Ni-P/n-CeO2納米複閤鍍層.藉助環境掃描電鏡(E-SEM/EDXA)、透射電子顯微鏡(TEM)及X射線衍射儀(XRD),對鍍層微觀形貌、化學成分及晶體結構進行分析.結果錶明:摻雜15 g/L納米CeO2 (RE)顆粒,稀土Ce含量與沉積速度分彆可達2.3％和68 μm/h,晶粒緻密,呈現非晶態;在600℃下時效處理2h,複閤鍍層的顯微硬度高達HV780.討論瞭納米稀土顆粒吸附特性與脈遲過電勢對電沉積機理的影響.Ce4+或n-CeO2吸附在陰極活性錶麵形成大量具有催化作用的晶覈,沉積併釘扎在開裂的紋裂源邊緣.在高溫時效時,納米顆粒與部分Ni晶粒充分瀰散互溶,佔據空間,阻礙晶粒粗化及裂紋擴展,從而有效提高複閤鍍層的裂紋擴展抗力與顯微硬度.
이용쌍맥충전류특성여초성장고빈진탕효응전침적법제비Ni-P/n-CeO2납미복합도층.차조배경소묘전경(E-SEM/EDXA)、투사전자현미경(TEM)급X사선연사의(XRD),대도층미관형모、화학성분급정체결구진행분석.결과표명:참잡15 g/L납미CeO2 (RE)과립,희토Ce함량여침적속도분별가체2.3％화68 μm/h,정립치밀,정현비정태;재600℃하시효처리2h,복합도층적현미경도고체HV780.토론료납미희토과립흡부특성여맥충과전세대전침적궤리적영향.Ce4+혹n-CeO2흡부재음겁활성표면형성대량구유최화작용적정핵,침적병정찰재개렬적문렬원변연.재고온시효시,납미과립여부분Ni정립충분미산호용,점거공간,조애정립조화급렬문확전,종이유효제고복합도층적렬문확전항력여현미경도.
