材料导报
材料導報
재료도보
MATERIALS REVIEW
2013年
z2期
13-15
,共3页
张恒%马蒋%张莹%刘应开
張恆%馬蔣%張瑩%劉應開
장항%마장%장형%류응개
双离子束沉积%Cu纳米薄膜%膜厚分布%表面粗糙度
雙離子束沉積%Cu納米薄膜%膜厚分佈%錶麵粗糙度
쌍리자속침적%Cu납미박막%막후분포%표면조조도
dual-ion beam deposition%Cu nano-film%thickness distribution%surface roughness
以(100)硅片为衬底,通过双离子束溅射生长不同厚度的Cu纳米薄膜.利用原子力显微镜及椭偏仪对样品进行分析和研究.结果表明:离子束在斜入射45°的条件下溅射,原子通量的峰值与法线夹角约为15.1°,膜厚度按照余弦五次方分布,并给出了法线两边对称分布薄膜的表面粗糙度变化公式.研究表明双离子束溅射制备的薄膜优于其他方法生长的薄膜,膜的表面平整度、厚度均匀性更好.
以(100)硅片為襯底,通過雙離子束濺射生長不同厚度的Cu納米薄膜.利用原子力顯微鏡及橢偏儀對樣品進行分析和研究.結果錶明:離子束在斜入射45°的條件下濺射,原子通量的峰值與法線夾角約為15.1°,膜厚度按照餘絃五次方分佈,併給齣瞭法線兩邊對稱分佈薄膜的錶麵粗糙度變化公式.研究錶明雙離子束濺射製備的薄膜優于其他方法生長的薄膜,膜的錶麵平整度、厚度均勻性更好.
이(100)규편위츤저,통과쌍리자속천사생장불동후도적Cu납미박막.이용원자력현미경급타편의대양품진행분석화연구.결과표명:리자속재사입사45°적조건하천사,원자통량적봉치여법선협각약위15.1°,막후도안조여현오차방분포,병급출료법선량변대칭분포박막적표면조조도변화공식.연구표명쌍리자속천사제비적박막우우기타방법생장적박막,막적표면평정도、후도균균성경호.
