分析化学
分析化學
분석화학
CHINESE JOURNAL OF ANALYTICAL CHEMISTRY
2013年
5期
693-697
,共5页
朱晓婷%张璐佳%陶红%狄俊伟
硃曉婷%張璐佳%陶紅%狄俊偉
주효정%장로가%도홍%적준위
纳米孔金%电化学沉积%L-半胱胺酸%Cu2+
納米孔金%電化學沉積%L-半胱胺痠%Cu2+
납미공금%전화학침적%L-반광알산%Cu2+
在氨性溶液中,以HAuCl4和AgNO3为原料,采用电化学还原法直接在氧化铟锡(ITO)导电玻璃基底上沉积金银合金膜,然后用HClO4溶液去合金化,较活泼的金属银溶解,从而制备了高表面积的纳米孔金膜修饰电极,并对修饰电极进行了表征.纳米孔金膜的表面积可通过调控电解的条件来控制,所制备的纳米孔金膜电极可采用L-半胱胺酸自组装法进一步功能化,并应用于高灵敏和高选择性测定Cu2+.在优化实验条件下,Cu2+的吸附时间为5 min,采用线性扫描伏安法测定Cu2+浓度的线性范围为0.05 ～ 4.0 μmol/L,检出限为0.03 μmoL/L,对1μmol/L Cu2+平行测定9次,其相对标准偏差为4.3％.本方法用于环境水样中Cu2+的测定,结果令人满意.
在氨性溶液中,以HAuCl4和AgNO3為原料,採用電化學還原法直接在氧化銦錫(ITO)導電玻璃基底上沉積金銀閤金膜,然後用HClO4溶液去閤金化,較活潑的金屬銀溶解,從而製備瞭高錶麵積的納米孔金膜脩飾電極,併對脩飾電極進行瞭錶徵.納米孔金膜的錶麵積可通過調控電解的條件來控製,所製備的納米孔金膜電極可採用L-半胱胺痠自組裝法進一步功能化,併應用于高靈敏和高選擇性測定Cu2+.在優化實驗條件下,Cu2+的吸附時間為5 min,採用線性掃描伏安法測定Cu2+濃度的線性範圍為0.05 ～ 4.0 μmol/L,檢齣限為0.03 μmoL/L,對1μmol/L Cu2+平行測定9次,其相對標準偏差為4.3％.本方法用于環境水樣中Cu2+的測定,結果令人滿意.
재안성용액중,이HAuCl4화AgNO3위원료,채용전화학환원법직접재양화인석(ITO)도전파리기저상침적금은합금막,연후용HClO4용액거합금화,교활발적금속은용해,종이제비료고표면적적납미공금막수식전겁,병대수식전겁진행료표정.납미공금막적표면적가통과조공전해적조건래공제,소제비적납미공금막전겁가채용L-반광알산자조장법진일보공능화,병응용우고령민화고선택성측정Cu2+.재우화실험조건하,Cu2+적흡부시간위5 min,채용선성소묘복안법측정Cu2+농도적선성범위위0.05 ～ 4.0 μmol/L,검출한위0.03 μmoL/L,대1μmol/L Cu2+평행측정9차,기상대표준편차위4.3％.본방법용우배경수양중Cu2+적측정,결과령인만의.
