稀有金属材料与工程
稀有金屬材料與工程
희유금속재료여공정
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERNG
2013年
4期
692-695
,共4页
储向峰%李秀金%董永平%乔红斌%白林山
儲嚮峰%李秀金%董永平%喬紅斌%白林山
저향봉%리수금%동영평%교홍빈%백림산
纳米二氧化锡%磨料%化学机械抛光%钌
納米二氧化錫%磨料%化學機械拋光%釕
납미이양화석%마료%화학궤계포광%조
nano-SnO2%abrasive%CMP (chemical mechanical polish)%ruthenium
利用固相反应法制备纳米二氧化锡磨料并研究了制备条件对平均粒径的影响.结果表明,在500 ℃/4 h条件下制得的纳米二氧化锡粉体在水中有良好的分散性和稳定性.利用自制的抛光液对高纯钌片进行化学机械抛光,与二氧化硅磨料抛光液比较,材料去除速率和表面粗糙度都降低.当抛光液中含1％(质量分数,下同)二氧化锡、1％过硫酸铵、1％酒石酸和3 mmol/L咪唑,pH=8.0,抛光压力为17.24 kPa时,材料去除速率(MRR)和表面粗糙度(Ra)分别为6.8 nm/min和4.8 nm.
利用固相反應法製備納米二氧化錫磨料併研究瞭製備條件對平均粒徑的影響.結果錶明,在500 ℃/4 h條件下製得的納米二氧化錫粉體在水中有良好的分散性和穩定性.利用自製的拋光液對高純釕片進行化學機械拋光,與二氧化硅磨料拋光液比較,材料去除速率和錶麵粗糙度都降低.噹拋光液中含1％(質量分數,下同)二氧化錫、1％過硫痠銨、1％酒石痠和3 mmol/L咪唑,pH=8.0,拋光壓力為17.24 kPa時,材料去除速率(MRR)和錶麵粗糙度(Ra)分彆為6.8 nm/min和4.8 nm.
이용고상반응법제비납미이양화석마료병연구료제비조건대평균립경적영향.결과표명,재500 ℃/4 h조건하제득적납미이양화석분체재수중유량호적분산성화은정성.이용자제적포광액대고순조편진행화학궤계포광,여이양화규마료포광액비교,재료거제속솔화표면조조도도강저.당포광액중함1％(질량분수,하동)이양화석、1％과류산안、1％주석산화3 mmol/L미서,pH=8.0,포광압력위17.24 kPa시,재료거제속솔(MRR)화표면조조도(Ra)분별위6.8 nm/min화4.8 nm.
