功能材料
功能材料
공능재료
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS
2012年
12期
1586-1589
,共4页
徐送宁%蔡宗岐%孙乃坤%柳峰%高印博%赵美星
徐送寧%蔡宗岐%孫迺坤%柳峰%高印博%趙美星
서송저%채종기%손내곤%류봉%고인박%조미성
激光脉冲沉积%Ni掺杂%ZnO薄膜%光致发光%缺陷发光
激光脈遲沉積%Ni摻雜%ZnO薄膜%光緻髮光%缺陷髮光
격광맥충침적%Ni참잡%ZnO박막%광치발광%결함발광
采用激光脉冲沉积法,用XeCl准分子激光器在Si (100)基片、真空和5Pa氧气气氛下制备了Ni2+(0.8％(原子分数))掺杂的呈六角纤锌矿结构的ZnO薄膜.氧气气氛下制备的薄膜沿(002)取向生长,表面比较平整,平均颗粒尺寸为80nm.真空条件下制备的薄膜出现Zn2SiO4杂相,平均颗粒尺寸为150nm.和真空条件下制备的薄膜相比,氧气气氛下制备的薄膜具有较强的ZnO本征发光,在425nm附近出现由于填隙Zn缺陷引起的较宽的蓝光发光带,并且在482nm处出现了由于氧空位和氧间隙间的转换引起的较强的蓝光发光峰,同时由于氧缺陷引起的449nm附近的蓝光发光峰强度明显降低.
採用激光脈遲沉積法,用XeCl準分子激光器在Si (100)基片、真空和5Pa氧氣氣氛下製備瞭Ni2+(0.8％(原子分數))摻雜的呈六角纖鋅礦結構的ZnO薄膜.氧氣氣氛下製備的薄膜沿(002)取嚮生長,錶麵比較平整,平均顆粒呎吋為80nm.真空條件下製備的薄膜齣現Zn2SiO4雜相,平均顆粒呎吋為150nm.和真空條件下製備的薄膜相比,氧氣氣氛下製備的薄膜具有較彊的ZnO本徵髮光,在425nm附近齣現由于填隙Zn缺陷引起的較寬的藍光髮光帶,併且在482nm處齣現瞭由于氧空位和氧間隙間的轉換引起的較彊的藍光髮光峰,同時由于氧缺陷引起的449nm附近的藍光髮光峰彊度明顯降低.
채용격광맥충침적법,용XeCl준분자격광기재Si (100)기편、진공화5Pa양기기분하제비료Ni2+(0.8％(원자분수))참잡적정륙각섬자광결구적ZnO박막.양기기분하제비적박막연(002)취향생장,표면비교평정,평균과립척촌위80nm.진공조건하제비적박막출현Zn2SiO4잡상,평균과립척촌위150nm.화진공조건하제비적박막상비,양기기분하제비적박막구유교강적ZnO본정발광,재425nm부근출현유우전극Zn결함인기적교관적람광발광대,병차재482nm처출현료유우양공위화양간극간적전환인기적교강적람광발광봉,동시유우양결함인기적449nm부근적람광발광봉강도명현강저.
