真空
真空
진공
VACUUM
2013年
1期
31-33
,共3页
硅%电子束沉积%光学薄膜
硅%電子束沉積%光學薄膜
규%전자속침적%광학박막
介绍了硅的理化特性以及在光学薄膜设计中的应用特点.对电子束沉积硅薄膜时的温度、真空度进行了确定,并对其沉积速率的稳定性以及石墨坩埚的使用方法进行了研究.利用分光光度法测定了硅膜在0.5μm～5 μm波段范围内的折射率分布曲线.
介紹瞭硅的理化特性以及在光學薄膜設計中的應用特點.對電子束沉積硅薄膜時的溫度、真空度進行瞭確定,併對其沉積速率的穩定性以及石墨坩堝的使用方法進行瞭研究.利用分光光度法測定瞭硅膜在0.5μm～5 μm波段範圍內的摺射率分佈麯線.
개소료규적이화특성이급재광학박막설계중적응용특점.대전자속침적규박막시적온도、진공도진행료학정,병대기침적속솔적은정성이급석묵감과적사용방법진행료연구.이용분광광도법측정료규막재0.5μm～5 μm파단범위내적절사솔분포곡선.
