稀有金属材料与工程
稀有金屬材料與工程
희유금속재료여공정
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERNG
2013年
1期
109-113
,共5页
李春伟%田修波%刘天伟%秦建伟%巩春志%杨士勤
李春偉%田脩波%劉天偉%秦建偉%鞏春誌%楊士勤
리춘위%전수파%류천위%진건위%공춘지%양사근
高功率脉冲磁控溅射%V薄膜%直流偏压%铝合金%耐蚀性
高功率脈遲磁控濺射%V薄膜%直流偏壓%鋁閤金%耐蝕性
고공솔맥충자공천사%V박막%직류편압%려합금%내식성
采用高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)法,在工业纯铝基体上生长得到V薄膜,研究不同直流偏压对薄膜相结构、形貌及不同温度处理对耐蚀性的影响.结果表明,薄膜相结构为单一的V(111)相.薄膜表面光滑、平整,且随偏压的增大,薄膜表面粗糙度先减小后增大,最小仅为0.488 nm.薄膜沉积过程中离子吸引效应和溅射效应的竞争导致薄膜沉积速率随着偏压的增大先减小后增大.20℃时镀V薄膜样品在偏压为-100V时耐蚀性最佳,其腐蚀电位比基体提高了0.425V,腐蚀电流下降了2个数量级以上.镀V薄膜样品经过200和300℃加热处理后,其耐蚀性提高,但是与基体相比,经200℃处理后的镀V薄膜样品腐蚀电流最大降低了1个数量级,而经300℃处理后的镀V薄膜样品耐蚀性与基体相比提高并不明显.
採用高功率脈遲磁控濺射(HPPMS)法,在工業純鋁基體上生長得到V薄膜,研究不同直流偏壓對薄膜相結構、形貌及不同溫度處理對耐蝕性的影響.結果錶明,薄膜相結構為單一的V(111)相.薄膜錶麵光滑、平整,且隨偏壓的增大,薄膜錶麵粗糙度先減小後增大,最小僅為0.488 nm.薄膜沉積過程中離子吸引效應和濺射效應的競爭導緻薄膜沉積速率隨著偏壓的增大先減小後增大.20℃時鍍V薄膜樣品在偏壓為-100V時耐蝕性最佳,其腐蝕電位比基體提高瞭0.425V,腐蝕電流下降瞭2箇數量級以上.鍍V薄膜樣品經過200和300℃加熱處理後,其耐蝕性提高,但是與基體相比,經200℃處理後的鍍V薄膜樣品腐蝕電流最大降低瞭1箇數量級,而經300℃處理後的鍍V薄膜樣品耐蝕性與基體相比提高併不明顯.
채용고공솔맥충자공천사(HPPMS)법,재공업순려기체상생장득도V박막,연구불동직류편압대박막상결구、형모급불동온도처리대내식성적영향.결과표명,박막상결구위단일적V(111)상.박막표면광활、평정,차수편압적증대,박막표면조조도선감소후증대,최소부위0.488 nm.박막침적과정중리자흡인효응화천사효응적경쟁도치박막침적속솔수착편압적증대선감소후증대.20℃시도V박막양품재편압위-100V시내식성최가,기부식전위비기체제고료0.425V,부식전류하강료2개수량급이상.도V박막양품경과200화300℃가열처리후,기내식성제고,단시여기체상비,경200℃처리후적도V박막양품부식전류최대강저료1개수량급,이경300℃처리후적도V박막양품내식성여기체상비제고병불명현.
