电镀与涂饰
電鍍與塗飾
전도여도식
ELECTROPLATING & FINISHING
2013年
5期
1-5
,共5页
刘小勤%曾冬铭%徐钦建%黄凤祥%刘中兴
劉小勤%曾鼕銘%徐欽建%黃鳳祥%劉中興
류소근%증동명%서흠건%황봉상%류중흥
8-羟基喹啉%聚合%电沉积%不对称交流脉冲电位法%镀镍%耐蚀性
8-羥基喹啉%聚閤%電沉積%不對稱交流脈遲電位法%鍍鎳%耐蝕性
8-간기규람%취합%전침적%불대칭교류맥충전위법%도얼%내식성
采用不对称交流脉冲电位法在镀镍工件表面制备聚8-羟基喹啉薄膜.研究了阶跃电位、阶跃时间、重复次数和溶液中8-羟基喹啉含量等工艺条件对电沉积聚8-羟基喹啉薄膜的影响.分别采用塔菲尔曲线测量、扫描电镜和能谱分析对电沉积后工件的耐蚀性、薄膜的表面形貌和组成进行分析.最佳工艺条件为:8-羟基喹啉0.002 mol/L,氢氧化钠0.4 mol/L,正阶跃电位0.55V,负阶跃电位-0.05V,正阶跃时间0.2 s,负阶跃时间0.1 s,重复次数100.采用最佳工艺处理后,工件的腐蚀电位、腐蚀速率分别为-0.32 V和4.158 1×10-3 g/(m2.h),耐蚀性优于未处理的工件,且与铬钝化处理的工件相当.
採用不對稱交流脈遲電位法在鍍鎳工件錶麵製備聚8-羥基喹啉薄膜.研究瞭階躍電位、階躍時間、重複次數和溶液中8-羥基喹啉含量等工藝條件對電沉積聚8-羥基喹啉薄膜的影響.分彆採用塔菲爾麯線測量、掃描電鏡和能譜分析對電沉積後工件的耐蝕性、薄膜的錶麵形貌和組成進行分析.最佳工藝條件為:8-羥基喹啉0.002 mol/L,氫氧化鈉0.4 mol/L,正階躍電位0.55V,負階躍電位-0.05V,正階躍時間0.2 s,負階躍時間0.1 s,重複次數100.採用最佳工藝處理後,工件的腐蝕電位、腐蝕速率分彆為-0.32 V和4.158 1×10-3 g/(m2.h),耐蝕性優于未處理的工件,且與鉻鈍化處理的工件相噹.
채용불대칭교류맥충전위법재도얼공건표면제비취8-간기규람박막.연구료계약전위、계약시간、중복차수화용액중8-간기규람함량등공예조건대전침적취8-간기규람박막적영향.분별채용탑비이곡선측량、소묘전경화능보분석대전침적후공건적내식성、박막적표면형모화조성진행분석.최가공예조건위:8-간기규람0.002 mol/L,경양화납0.4 mol/L,정계약전위0.55V,부계약전위-0.05V,정계약시간0.2 s,부계약시간0.1 s,중복차수100.채용최가공예처리후,공건적부식전위、부식속솔분별위-0.32 V화4.158 1×10-3 g/(m2.h),내식성우우미처리적공건,차여락둔화처리적공건상당.
