CAJ | 학술논문

为了得到均匀分布的硅表面微结构,提出了一种利用多束激光干涉光刻的方法来实现对硅表面微结构分布特征的控制.利用空间光调制器实现飞秒激光多光束干涉,形成分布均匀、周期可控的空间点阵,利用聚焦的空间点阵在单晶硅表面烧蚀得到规则分布的凹坑状结构,并通过改变附加给空间光调制器的相位实现对微结构分布特征及间距的控制.用扫描电子显微镜和分光光度计分别对结构的形貌特征和光学特性进行了测量,结果表明:采用底角为2°的四棱锥镜相位形成四光束干涉,通过10×物镜聚焦,在激光功率25 mW、曝光时间30 s时,可以形成间距约为3.3 μm的密排凹坑微结构,所形成的凹坑结构具有良好的减反效果,在1.2～2μm近红外波段的透过率相对抛光硅平均提高了11.5％o.
위료득도균균분포적규표면미결구,제출료일충이용다속격광간섭광각적방법래실현대규표면미결구분포특정적공제.이용공간광조제기실현비초격광다광속간섭,형성분포균균、주기가공적공간점진,이용취초적공간점진재단정규표면소식득도규칙분포적요갱상결구,병통과개변부가급공간광조제기적상위실현대미결구분포특정급간거적공제.용소묘전자현미경화분광광도계분별대결구적형모특정화광학특성진행료측량,결과표명:채용저각위2°적사릉추경상위형성사광속간섭,통과10×물경취초,재격광공솔25 mW、폭광시간30 s시,가이형성간거약위3.3 μm적밀배요갱미결구,소형성적요갱결구구유량호적감반효과,재1.2～2μm근홍외파단적투과솔상대포광규평균제고료11.5％o.