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ISOTOPES
2013年
1期
38-41
,共4页
沈亦佳%陈玉清%梁积新%乔来成%邓雪松%李光%刘玉平
瀋亦佳%陳玉清%樑積新%喬來成%鄧雪鬆%李光%劉玉平
침역가%진옥청%량적신%교래성%산설송%리광%류옥평
64Cu%Ni靶%电沉积法%加速器
64Cu%Ni靶%電沉積法%加速器
64Cu%Ni파%전침적법%가속기
为制备加速器生产64Cu辐照用Ni靶,采用电沉积法研究了电沉积过程中影响Ni靶层质量和质量厚度的主要因素,确定了Ni靶制备工艺条件和参数,为Ni浓度40～50 g/L,盐酸浓度0.05～0.5 mol/L,电沉积温度20～50℃,搅拌器旋转速度150～350 r/min,电流密度10～35 mA/cm2.在此工艺条件下制备出的Ni靶件表面光滑、平整,靶层致密、牢固,可应用于回旋加速器生产64Cu.
為製備加速器生產64Cu輻照用Ni靶,採用電沉積法研究瞭電沉積過程中影響Ni靶層質量和質量厚度的主要因素,確定瞭Ni靶製備工藝條件和參數,為Ni濃度40～50 g/L,鹽痠濃度0.05～0.5 mol/L,電沉積溫度20～50℃,攪拌器鏇轉速度150～350 r/min,電流密度10～35 mA/cm2.在此工藝條件下製備齣的Ni靶件錶麵光滑、平整,靶層緻密、牢固,可應用于迴鏇加速器生產64Cu.
위제비가속기생산64Cu복조용Ni파,채용전침적법연구료전침적과정중영향Ni파층질량화질량후도적주요인소,학정료Ni파제비공예조건화삼수,위Ni농도40～50 g/L,염산농도0.05～0.5 mol/L,전침적온도20～50℃,교반기선전속도150～350 r/min,전류밀도10～35 mA/cm2.재차공예조건하제비출적Ni파건표면광활、평정,파층치밀、뢰고,가응용우회선가속기생산64Cu.
