中国机械工程
中國機械工程
중국궤계공정
CHINA MECHANICAl ENGINEERING
2013年
6期
742-745,780
,共5页
姚伟强%马国伟%金清波%黄亦申%赵彬善%许雪峰
姚偉彊%馬國偉%金清波%黃亦申%趙彬善%許雪峰
요위강%마국위%금청파%황역신%조빈선%허설봉
化学机械抛光%抛光液%复合磨粒%聚电解质%硅片
化學機械拋光%拋光液%複閤磨粒%聚電解質%硅片
화학궤계포광%포광액%복합마립%취전해질%규편
利用静电层层自组装原理,通过PDADMAC在聚合物粒子表面改性和吸附不同层数的SiO2磨粒,制备n-SiO2/BGF复合磨粒及其抛光液.分析了交替吸附PDADMAC和SiO2磨粒的BGF微球表面Zeta电位的变化,利用TEM表征了不同层数的n-SiO2/BGF复合磨粒SiO2磨粒的吸附情况.分析了聚合物表面磨粒的吸附层数、游离磨粒浓度、聚合物粒径对复合磨粒抛光液抛光的影响.抛光实验表明:3-SiO2/BGF复合磨粒抛光液的材料去除率最高,为368.8nm/min;复合磨粒抛光液中的聚合物粒子为1～2μm、游离磨料SiO2的质量分数为5％时,材料去除率取得较大值.经3-SiO2/BGF复合磨粒抛光液抛光后的硅表面,在10μm×10μm范围内,表面粗糙度从0.3μm降至0.9nm,峰谷值小于10nm,表明复合磨粒抛光液对硅片具有良好的抛光效果.
利用靜電層層自組裝原理,通過PDADMAC在聚閤物粒子錶麵改性和吸附不同層數的SiO2磨粒,製備n-SiO2/BGF複閤磨粒及其拋光液.分析瞭交替吸附PDADMAC和SiO2磨粒的BGF微毬錶麵Zeta電位的變化,利用TEM錶徵瞭不同層數的n-SiO2/BGF複閤磨粒SiO2磨粒的吸附情況.分析瞭聚閤物錶麵磨粒的吸附層數、遊離磨粒濃度、聚閤物粒徑對複閤磨粒拋光液拋光的影響.拋光實驗錶明:3-SiO2/BGF複閤磨粒拋光液的材料去除率最高,為368.8nm/min;複閤磨粒拋光液中的聚閤物粒子為1～2μm、遊離磨料SiO2的質量分數為5％時,材料去除率取得較大值.經3-SiO2/BGF複閤磨粒拋光液拋光後的硅錶麵,在10μm×10μm範圍內,錶麵粗糙度從0.3μm降至0.9nm,峰穀值小于10nm,錶明複閤磨粒拋光液對硅片具有良好的拋光效果.
이용정전층층자조장원리,통과PDADMAC재취합물입자표면개성화흡부불동층수적SiO2마립,제비n-SiO2/BGF복합마립급기포광액.분석료교체흡부PDADMAC화SiO2마립적BGF미구표면Zeta전위적변화,이용TEM표정료불동층수적n-SiO2/BGF복합마립SiO2마립적흡부정황.분석료취합물표면마립적흡부층수、유리마립농도、취합물립경대복합마립포광액포광적영향.포광실험표명:3-SiO2/BGF복합마립포광액적재료거제솔최고,위368.8nm/min;복합마립포광액중적취합물입자위1～2μm、유리마료SiO2적질량분수위5％시,재료거제솔취득교대치.경3-SiO2/BGF복합마립포광액포광후적규표면,재10μm×10μm범위내,표면조조도종0.3μm강지0.9nm,봉곡치소우10nm,표명복합마립포광액대규편구유량호적포광효과.
