固体电子学研究与进展
固體電子學研究與進展
고체전자학연구여진전
RESEARCH & PROGRESS OF SOLID STATE ELECTRONICS
2013年
2期
108-111
,共4页
姜一波%曾传滨%罗家俊%韩郑生
薑一波%曾傳濱%囉傢俊%韓鄭生
강일파%증전빈%라가준%한정생
绝缘体上硅%静电保护%维持电压
絕緣體上硅%靜電保護%維持電壓
절연체상규%정전보호%유지전압
SOI (silicon on insulator)%ESD (electrostatic discharge) protection%holding voltage
对绝缘体上硅工艺来说,静电保护可靠性是一个关键且具有挑战性的问题.着重于研究H型栅SOIMOS的维持电压,通过实验发现此器件的维持电压与栅宽紧密联系.结合TCAD仿真解释了器件的工作机理,通过建立集约模型并由HSPICE仿真,揭示了体电阻与维持电压之间的关系.
對絕緣體上硅工藝來說,靜電保護可靠性是一箇關鍵且具有挑戰性的問題.著重于研究H型柵SOIMOS的維持電壓,通過實驗髮現此器件的維持電壓與柵寬緊密聯繫.結閤TCAD倣真解釋瞭器件的工作機理,通過建立集約模型併由HSPICE倣真,揭示瞭體電阻與維持電壓之間的關繫.
대절연체상규공예래설,정전보호가고성시일개관건차구유도전성적문제.착중우연구H형책SOIMOS적유지전압,통과실험발현차기건적유지전압여책관긴밀련계.결합TCAD방진해석료기건적공작궤리,통과건립집약모형병유HSPICE방진,게시료체전조여유지전압지간적관계.