青岛大学学报（自然科学版）
青島大學學報（自然科學版）
청도대학학보（자연과학판）
JOURNAL OF QINGDAO UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE EDITION)
2013年
2期
25-29
,共5页
张倩%单福凯%耿广州%刘国侠%Shin B.C.%Lee W.J.%Kim I.S.
張倩%單福凱%耿廣州%劉國俠%Shin B.C.%Lee W.J.%Kim I.S.
장천%단복개%경엄주%류국협%Shin B.C.%Lee W.J.%Kim I.S.
InTiZnO%共溅射%透过率%功率
InTiZnO%共濺射%透過率%功率
InTiZnO%공천사%투과솔%공솔
InTiZnO%Co-sputtering%Transmittance%Power
采用射频磁控共溅射法,以In2O3和Zn2TiO4陶瓷靶为共溅射靶材,在玻璃衬底上制备了InTiZnO薄膜.在薄膜制备过程中,固定In2O3靶材的溅射功率,研究了Zn2TiO4靶材溅射功率对薄膜的沉积速率、结晶质量、表面形貌以及薄膜透过率的影响.发现随着Zn2TiO4靶材的溅射功率的增大,薄膜的沉积速率增加.随着Zn2TiO4靶材的溅射功率的增大,薄膜中In2O3的峰逐渐减小.当溅射功率为90 W时,In2O3峰消失,薄膜结构转变为非晶结构.薄膜的晶粒尺寸随着溅射功率的增大而减小,粗糙度随溅射功率的增大先增大后减小.InTiZnO薄膜在可见光区的透过率受溅射功率的影响变化不大,可见光范围内的透过率大于85％；在320 nm～410 nm波长附近薄膜透过率急剧下降,呈现了明显的紫外吸收边；薄膜的光学禁带宽度随着Zn2TiO4靶材的溅射功率的增大而减小.
採用射頻磁控共濺射法,以In2O3和Zn2TiO4陶瓷靶為共濺射靶材,在玻璃襯底上製備瞭InTiZnO薄膜.在薄膜製備過程中,固定In2O3靶材的濺射功率,研究瞭Zn2TiO4靶材濺射功率對薄膜的沉積速率、結晶質量、錶麵形貌以及薄膜透過率的影響.髮現隨著Zn2TiO4靶材的濺射功率的增大,薄膜的沉積速率增加.隨著Zn2TiO4靶材的濺射功率的增大,薄膜中In2O3的峰逐漸減小.噹濺射功率為90 W時,In2O3峰消失,薄膜結構轉變為非晶結構.薄膜的晶粒呎吋隨著濺射功率的增大而減小,粗糙度隨濺射功率的增大先增大後減小.InTiZnO薄膜在可見光區的透過率受濺射功率的影響變化不大,可見光範圍內的透過率大于85％；在320 nm～410 nm波長附近薄膜透過率急劇下降,呈現瞭明顯的紫外吸收邊；薄膜的光學禁帶寬度隨著Zn2TiO4靶材的濺射功率的增大而減小.
채용사빈자공공천사법,이In2O3화Zn2TiO4도자파위공천사파재,재파리츤저상제비료InTiZnO박막.재박막제비과정중,고정In2O3파재적천사공솔,연구료Zn2TiO4파재천사공솔대박막적침적속솔、결정질량、표면형모이급박막투과솔적영향.발현수착Zn2TiO4파재적천사공솔적증대,박막적침적속솔증가.수착Zn2TiO4파재적천사공솔적증대,박막중In2O3적봉축점감소.당천사공솔위90 W시,In2O3봉소실,박막결구전변위비정결구.박막적정립척촌수착천사공솔적증대이감소,조조도수천사공솔적증대선증대후감소.InTiZnO박막재가견광구적투과솔수천사공솔적영향변화불대,가견광범위내적투과솔대우85％；재320 nm～410 nm파장부근박막투과솔급극하강,정현료명현적자외흡수변；박막적광학금대관도수착Zn2TiO4파재적천사공솔적증대이감소.
