光学精密工程
光學精密工程
광학정밀공정
OPTICS AND PRECISION ENGINEERING
2013年
6期
1380-1386
,共7页
朱京涛%宋竹青%丁涛%马爽%李浩川
硃京濤%宋竹青%丁濤%馬爽%李浩川
주경도%송죽청%정도%마상%리호천
极紫外多层膜%多层膜反射镜%稳定性%湿度
極紫外多層膜%多層膜反射鏡%穩定性%濕度
겁자외다층막%다층막반사경%은정성%습도
Extreme Ultraviolet(EUV) multilayer%multilayer mirror%stability%humidity
采用磁控溅射法在Si(100)基底上镀制了膜系结构分别为[Mg/Co]20、[Mg/SiC]20的两组多层膜,以研究Mg基多层膜的稳定性.对放置在室温和80％相对湿度环境下的样品进行显微镜、表面粗糙度和X射线掠入射反射率测试,对比研究了Mg/Co和Mg/SiC两种多层膜结构在相同环境中的损坏状况.对比结果显示:放置4天后,Mg/SiC损坏面积为26.34％,表面粗糙度为10 nm; Mg/Co的损坏面积为2.78％,表面粗糙度为5 nm.6天后,X射线掠入射反射率测量显示Mg/SiC多层膜一级反射峰完全消失,而Mg/Co多层膜的一级反射峰仍有47.63％的反射率.实验表明,Mg/Co多层膜的表面层和内部多层膜结构的损坏速度较Mg/SiC慢,具有较好的环境稳定性.另外,X射线光电子谱(XPS)测试Mg基多层膜损坏后的产物主要为MgCO3、Mg(OH)2和少量的MgO,且内层Mg(OH)2与MgCO3含量的比值显著高于表面层.分析认为,水汽是造成Mg基多层膜损坏的主要原因,今后Mg基多层膜保护层的研究可主要针对如何防止水汽进入膜层.
採用磁控濺射法在Si(100)基底上鍍製瞭膜繫結構分彆為[Mg/Co]20、[Mg/SiC]20的兩組多層膜,以研究Mg基多層膜的穩定性.對放置在室溫和80％相對濕度環境下的樣品進行顯微鏡、錶麵粗糙度和X射線掠入射反射率測試,對比研究瞭Mg/Co和Mg/SiC兩種多層膜結構在相同環境中的損壞狀況.對比結果顯示:放置4天後,Mg/SiC損壞麵積為26.34％,錶麵粗糙度為10 nm; Mg/Co的損壞麵積為2.78％,錶麵粗糙度為5 nm.6天後,X射線掠入射反射率測量顯示Mg/SiC多層膜一級反射峰完全消失,而Mg/Co多層膜的一級反射峰仍有47.63％的反射率.實驗錶明,Mg/Co多層膜的錶麵層和內部多層膜結構的損壞速度較Mg/SiC慢,具有較好的環境穩定性.另外,X射線光電子譜(XPS)測試Mg基多層膜損壞後的產物主要為MgCO3、Mg(OH)2和少量的MgO,且內層Mg(OH)2與MgCO3含量的比值顯著高于錶麵層.分析認為,水汽是造成Mg基多層膜損壞的主要原因,今後Mg基多層膜保護層的研究可主要針對如何防止水汽進入膜層.
채용자공천사법재Si(100)기저상도제료막계결구분별위[Mg/Co]20、[Mg/SiC]20적량조다층막,이연구Mg기다층막적은정성.대방치재실온화80％상대습도배경하적양품진행현미경、표면조조도화X사선략입사반사솔측시,대비연구료Mg/Co화Mg/SiC량충다층막결구재상동배경중적손배상황.대비결과현시:방치4천후,Mg/SiC손배면적위26.34％,표면조조도위10 nm; Mg/Co적손배면적위2.78％,표면조조도위5 nm.6천후,X사선략입사반사솔측량현시Mg/SiC다층막일급반사봉완전소실,이Mg/Co다층막적일급반사봉잉유47.63％적반사솔.실험표명,Mg/Co다층막적표면층화내부다층막결구적손배속도교Mg/SiC만,구유교호적배경은정성.령외,X사선광전자보(XPS)측시Mg기다층막손배후적산물주요위MgCO3、Mg(OH)2화소량적MgO,차내층Mg(OH)2여MgCO3함량적비치현저고우표면층.분석인위,수기시조성Mg기다층막손배적주요원인,금후Mg기다층막보호층적연구가주요침대여하방지수기진입막층.
