稀有金属材料与工程
稀有金屬材料與工程
희유금속재료여공정
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERNG
2013年
5期
1017-1022
,共6页
李春伟%田修波%刘天伟%秦建伟%巩春志%杨士勤
李春偉%田脩波%劉天偉%秦建偉%鞏春誌%楊士勤
리춘위%전수파%류천위%진건위%공춘지%양사근
高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)%V薄膜%溅射气压%摩擦系数%退火
高功率脈遲磁控濺射(HPPMS)%V薄膜%濺射氣壓%摩抆繫數%退火
고공솔맥충자공천사(HPPMS)%V박막%천사기압%마찰계수%퇴화
high power pulsed magnetron sputtering%vanadium films%sputtering pressure%friction coefficient%annealing
采用高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)技术,在铝合金基体上制备V薄膜.研究溅射气压对V薄膜相结构、表面形貌及摩擦学性能的影响.结果表明:不同气压下制备的V薄膜中的V相仅沿(111)晶面生长,其衍射峰强度先增强后减弱,当气压为0.5 Pa时,衍射峰最强且择优取向最明显；同时,V薄膜表面质量最好,其表面粗糙度最小仅为0.267 nm.室温下V薄膜样品的耐磨性能与基体相比有大幅提高,当气压为0.5 Pa时,摩擦系数可由基体的0.57下降到0.28,磨痕表面无明显的剥落迹象,表现出最佳的摩擦磨损性能.经过200和300℃加热处理后的V薄膜样品的摩擦系数与基体相比具有稳定的低值,这是由于表面氧化造成的.
採用高功率脈遲磁控濺射(HPPMS)技術,在鋁閤金基體上製備V薄膜.研究濺射氣壓對V薄膜相結構、錶麵形貌及摩抆學性能的影響.結果錶明:不同氣壓下製備的V薄膜中的V相僅沿(111)晶麵生長,其衍射峰彊度先增彊後減弱,噹氣壓為0.5 Pa時,衍射峰最彊且擇優取嚮最明顯；同時,V薄膜錶麵質量最好,其錶麵粗糙度最小僅為0.267 nm.室溫下V薄膜樣品的耐磨性能與基體相比有大幅提高,噹氣壓為0.5 Pa時,摩抆繫數可由基體的0.57下降到0.28,磨痕錶麵無明顯的剝落跡象,錶現齣最佳的摩抆磨損性能.經過200和300℃加熱處理後的V薄膜樣品的摩抆繫數與基體相比具有穩定的低值,這是由于錶麵氧化造成的.
채용고공솔맥충자공천사(HPPMS)기술,재려합금기체상제비V박막.연구천사기압대V박막상결구、표면형모급마찰학성능적영향.결과표명:불동기압하제비적V박막중적V상부연(111)정면생장,기연사봉강도선증강후감약,당기압위0.5 Pa시,연사봉최강차택우취향최명현；동시,V박막표면질량최호,기표면조조도최소부위0.267 nm.실온하V박막양품적내마성능여기체상비유대폭제고,당기압위0.5 Pa시,마찰계수가유기체적0.57하강도0.28,마흔표면무명현적박락적상,표현출최가적마찰마손성능.경과200화300℃가열처리후적V박막양품적마찰계수여기체상비구유은정적저치,저시유우표면양화조성적.
