长春工程学院学报（自然科学版）
長春工程學院學報（自然科學版）
장춘공정학원학보（자연과학판）
JOURNAL OF CHANGCHUN INSTITUTE OF TECHNOLOGY(NATURAL SCIENCE EDITION)
2013年
2期
106-108
,共3页
贯丛%徐毅%高金宇%姜亚梅%冯亮
貫叢%徐毅%高金宇%薑亞梅%馮亮
관총%서의%고금우%강아매%풍량
Bi2Te3薄膜%热电%Seebeck系数%射频磁控溅射
Bi2Te3薄膜%熱電%Seebeck繫數%射頻磁控濺射
Bi2Te3박막%열전%Seebeck계수%사빈자공천사
利用射频磁控溅射制备了N型Bi2Te3薄膜,并测量其在不同温度、不同膜厚度条件下的Seebeck系数和电导率.室温条件下,不同厚度Bi2 Te3薄膜Seebeck系数约为一150 μVK-1,当温度为53℃时,5.1 μm厚的薄膜Seebeck系数为-267 μVK-1,而1.5 μm厚的薄膜Seebeck系数为-142μVK-1.利用扫描电镜和X射线衍射仪研究了薄膜的微结构,当薄膜厚度增加时,晶粒尺寸越大.薄膜厚度为1.5 μm时,晶粒尺寸为800 nm,5.1 μm时,晶粒尺寸为1 300 nm.X射线衍射仪的分析结果表明,射频磁控溅射制备的N型Bi2Te3薄膜为菱方结构.
利用射頻磁控濺射製備瞭N型Bi2Te3薄膜,併測量其在不同溫度、不同膜厚度條件下的Seebeck繫數和電導率.室溫條件下,不同厚度Bi2 Te3薄膜Seebeck繫數約為一150 μVK-1,噹溫度為53℃時,5.1 μm厚的薄膜Seebeck繫數為-267 μVK-1,而1.5 μm厚的薄膜Seebeck繫數為-142μVK-1.利用掃描電鏡和X射線衍射儀研究瞭薄膜的微結構,噹薄膜厚度增加時,晶粒呎吋越大.薄膜厚度為1.5 μm時,晶粒呎吋為800 nm,5.1 μm時,晶粒呎吋為1 300 nm.X射線衍射儀的分析結果錶明,射頻磁控濺射製備的N型Bi2Te3薄膜為蔆方結構.
이용사빈자공천사제비료N형Bi2Te3박막,병측량기재불동온도、불동막후도조건하적Seebeck계수화전도솔.실온조건하,불동후도Bi2 Te3박막Seebeck계수약위일150 μVK-1,당온도위53℃시,5.1 μm후적박막Seebeck계수위-267 μVK-1,이1.5 μm후적박막Seebeck계수위-142μVK-1.이용소묘전경화X사선연사의연구료박막적미결구,당박막후도증가시,정립척촌월대.박막후도위1.5 μm시,정립척촌위800 nm,5.1 μm시,정립척촌위1 300 nm.X사선연사의적분석결과표명,사빈자공천사제비적N형Bi2Te3박막위릉방결구.
