固体电子学研究与进展
固體電子學研究與進展
고체전자학연구여진전
RESEARCH & PROGRESS OF SOLID STATE ELECTRONICS
2013年
5期
458-461,465
,共5页
李德钦%唐吉玉%崔婧%李培%王茜
李德欽%唐吉玉%崔婧%李培%王茜
리덕흠%당길옥%최청%리배%왕천
薄膜%ES势垒%台阶高度%粗糙度%覆盖率
薄膜%ES勢壘%檯階高度%粗糙度%覆蓋率
박막%ES세루%태계고도%조조도%복개솔
thin film%Ehrlich-Schwoebel barrier%step height%roughness%coverage rate
建立一个模拟薄膜三维生长的蒙特卡罗模型,模型中Ehrlich-Schwoebel(ES)势垒随台阶高度不同而变化.模拟结果表明:考虑ES势垒时,随着基底温度升高和沉积速率的降低,薄膜的粗糙度越来越低,成膜质量越好；一层ES势垒和层间势垒差对薄膜生长机制和成膜质量都有影响.
建立一箇模擬薄膜三維生長的矇特卡囉模型,模型中Ehrlich-Schwoebel(ES)勢壘隨檯階高度不同而變化.模擬結果錶明:攷慮ES勢壘時,隨著基底溫度升高和沉積速率的降低,薄膜的粗糙度越來越低,成膜質量越好；一層ES勢壘和層間勢壘差對薄膜生長機製和成膜質量都有影響.
건립일개모의박막삼유생장적몽특잡라모형,모형중Ehrlich-Schwoebel(ES)세루수태계고도불동이변화.모의결과표명:고필ES세루시,수착기저온도승고화침적속솔적강저,박막적조조도월래월저,성막질량월호；일층ES세루화층간세루차대박막생장궤제화성막질량도유영향.
