核电子学与探测技术
覈電子學與探測技術
핵전자학여탐측기술
NUCLEAR ELECTRONICS & DETECTION TECHNOLOGY
2013年
6期
662-664,669
,共4页
温中伟%王玫%林菊芳%蒋励%韩子杰%李艳
溫中偉%王玫%林菊芳%蔣勵%韓子傑%李豔
온중위%왕매%림국방%장려%한자걸%리염
管状电镀膜%电镀工艺%镀层定量
管狀電鍍膜%電鍍工藝%鍍層定量
관상전도막%전도공예%도층정량
pipe-shape electro-plated layer%electro-plated process%uranium nuclide quantifying
叙述了电沉积法制备管状铀电镀膜的原理及过程,分析了影响电镀工艺水平的各种因素.通过电沉积法制备了4种规格型号的铀电镀膜.利用平面铀电镀膜,通过相对定量法,对管状铀电镀膜镀层进行了定量.
敘述瞭電沉積法製備管狀鈾電鍍膜的原理及過程,分析瞭影響電鍍工藝水平的各種因素.通過電沉積法製備瞭4種規格型號的鈾電鍍膜.利用平麵鈾電鍍膜,通過相對定量法,對管狀鈾電鍍膜鍍層進行瞭定量.
서술료전침적법제비관상유전도막적원리급과정,분석료영향전도공예수평적각충인소.통과전침적법제비료4충규격형호적유전도막.이용평면유전도막,통과상대정량법,대관상유전도막도층진행료정량.
