电镀与涂饰
電鍍與塗飾
전도여도식
ELECTROPLATING & FINISHING
2014年
4期
155-157
,共3页
陈虎%杨卫英%伍智%李剑
陳虎%楊衛英%伍智%李劍
진호%양위영%오지%리검
钼%电化学抛光%表面形貌%粗糙度%几何尺寸
鉬%電化學拋光%錶麵形貌%粗糙度%幾何呎吋
목%전화학포광%표면형모%조조도%궤하척촌
molybdenum%electrochemical polishing%surface
以硫酸-磷酸铬酸体系为电解液,对钼片进行电化学抛光.通过测定阴极极化曲线,研究了抛光过程中电压和电流之间的关系.表征了抛光前后钼片的微观形貌、粗糙度和尺寸等.在2.0 A/cm2下对钼片电化学抛光30 s,可得到均匀平整、无明显坑点的表面,粗糙度由抛光前的0.20 μm降至0.05μm.通过严格控制抛光时间可有效保证样品的几何尺寸精度.
以硫痠-燐痠鉻痠體繫為電解液,對鉬片進行電化學拋光.通過測定陰極極化麯線,研究瞭拋光過程中電壓和電流之間的關繫.錶徵瞭拋光前後鉬片的微觀形貌、粗糙度和呎吋等.在2.0 A/cm2下對鉬片電化學拋光30 s,可得到均勻平整、無明顯坑點的錶麵,粗糙度由拋光前的0.20 μm降至0.05μm.通過嚴格控製拋光時間可有效保證樣品的幾何呎吋精度.
이류산-린산락산체계위전해액,대목편진행전화학포광.통과측정음겁겁화곡선,연구료포광과정중전압화전류지간적관계.표정료포광전후목편적미관형모、조조도화척촌등.재2.0 A/cm2하대목편전화학포광30 s,가득도균균평정、무명현갱점적표면,조조도유포광전적0.20 μm강지0.05μm.통과엄격공제포광시간가유효보증양품적궤하척촌정도.
