真空
真空
진공
VACUUM
2013年
2期
22-26
,共5页
汪礼柱%梁金%何晓雄%梁齐
汪禮柱%樑金%何曉雄%樑齊
왕례주%량금%하효웅%량제
NiO薄膜%脉冲激光沉积(PLD)%结构%形貌
NiO薄膜%脈遲激光沉積(PLD)%結構%形貌
NiO박막%맥충격광침적(PLD)%결구%형모
利用脉冲激光沉积法(PLD)在Si衬底上制备NiO薄膜,利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对所制备薄膜的晶体结构和表面形貌进行表征分析,研究衬底温度和脉冲激光能量对NiO薄膜结构和形貌的影响,得到生长质量较高、择优取向的多晶NiO薄膜的一种最佳制备条件.制备了p-NiO/n-Si异质结器件,Ⅰ-Ⅴ特性测试表明,器件具有良好的整流特性.
利用脈遲激光沉積法(PLD)在Si襯底上製備NiO薄膜,利用X射線衍射(XRD)和原子力顯微鏡(AFM)對所製備薄膜的晶體結構和錶麵形貌進行錶徵分析,研究襯底溫度和脈遲激光能量對NiO薄膜結構和形貌的影響,得到生長質量較高、擇優取嚮的多晶NiO薄膜的一種最佳製備條件.製備瞭p-NiO/n-Si異質結器件,Ⅰ-Ⅴ特性測試錶明,器件具有良好的整流特性.
이용맥충격광침적법(PLD)재Si츤저상제비NiO박막,이용X사선연사(XRD)화원자력현미경(AFM)대소제비박막적정체결구화표면형모진행표정분석,연구츤저온도화맥충격광능량대NiO박막결구화형모적영향,득도생장질량교고、택우취향적다정NiO박막적일충최가제비조건.제비료p-NiO/n-Si이질결기건,Ⅰ-Ⅴ특성측시표명,기건구유량호적정류특성.
