真空与低温
真空與低溫
진공여저온
VACUUM AND CRYOGENICS
2014年
3期
163-166
,共4页
张敏%李晨%张平%王多书%陈焘
張敏%李晨%張平%王多書%陳燾
장민%리신%장평%왕다서%진도
硅碳氧薄膜%磁控溅射%沉积参数%光学性能
硅碳氧薄膜%磁控濺射%沉積參數%光學性能
규탄양박막%자공천사%침적삼수%광학성능
silicon oxycarbide films%magnetron sputtering%deposition parameters%optical properties
硅碳氧薄膜拥有热稳定性好、能带宽、折射率大、硬度高、热导率高等优异性能,是一种具有潜在应用价值的新颖光学薄膜。采用射频磁控溅射技术在K9玻璃上制备了硅碳氧薄膜,并研究了沉积参数对硅碳氧薄膜光学性能的影响。结果表明,所制备的硅碳氧薄膜呈现出优异的光学透射性能,工作压力的增高和溅射功率的降低都会使薄膜的透射光谱发生蓝移现象,而基片温度的降低、工作压力的升高及溅射功率的减小都能使薄膜的光学透射性能更好。改变沉积参数,可以获得不同的薄膜沉积速率。折射率在1.80~2.20之间变化。
硅碳氧薄膜擁有熱穩定性好、能帶寬、摺射率大、硬度高、熱導率高等優異性能,是一種具有潛在應用價值的新穎光學薄膜。採用射頻磁控濺射技術在K9玻璃上製備瞭硅碳氧薄膜,併研究瞭沉積參數對硅碳氧薄膜光學性能的影響。結果錶明,所製備的硅碳氧薄膜呈現齣優異的光學透射性能,工作壓力的增高和濺射功率的降低都會使薄膜的透射光譜髮生藍移現象,而基片溫度的降低、工作壓力的升高及濺射功率的減小都能使薄膜的光學透射性能更好。改變沉積參數,可以穫得不同的薄膜沉積速率。摺射率在1.80~2.20之間變化。
규탄양박막옹유열은정성호、능대관、절사솔대、경도고、열도솔고등우이성능,시일충구유잠재응용개치적신영광학박막。채용사빈자공천사기술재K9파리상제비료규탄양박막,병연구료침적삼수대규탄양박막광학성능적영향。결과표명,소제비적규탄양박막정현출우이적광학투사성능,공작압력적증고화천사공솔적강저도회사박막적투사광보발생람이현상,이기편온도적강저、공작압력적승고급천사공솔적감소도능사박막적광학투사성능경호。개변침적삼수,가이획득불동적박막침적속솔。절사솔재1.80~2.20지간변화。
Silicon oxycarbide (SiCXO4-X) thin films, an advanced optical material, have many preferred properties, such as high thermal conductivity , low thermal expansion coefficient , high hardness and so on.SiCO thin films have been deposited using RF-magnetron sputtering technology .The influence of deposition parameters on optical properties of SiCO thin film was studied.The result showed that SiCO thin films presented excellent optical properties.Decreasing of substrate temperature and sputtering power, the rising of working pressure could improve the transmission properties of SiCO films. Different deposition rate could be obtained by varying deposition parameters .The refractive index had a wide region range from 1.80~2.20.