真空电子技术
真空電子技術
진공전자기술
VACUUM ELECTRONICS
2014年
4期
62-64,71
,共4页
李莉莉%丁明清%杜英华%蔡军%胡银富%冯进军
李莉莉%丁明清%杜英華%蔡軍%鬍銀富%馮進軍
리리리%정명청%두영화%채군%호은부%풍진군
太赫兹%微波真空器件%微波等离子体化学气相沉积%超纳米晶金刚石
太赫玆%微波真空器件%微波等離子體化學氣相沉積%超納米晶金剛石
태혁자%미파진공기건%미파등리자체화학기상침적%초납미정금강석
THz%Microwave vacuum devices%MPCVD%Ultra-nanocrystalline diamond
超纳米晶金刚石(UNCD)在短毫米波特别是太赫兹真空器件输能窗中具有潜在的应用价值.本文介绍了UNCD膜的制备工艺和性能表征.利用微波等离子体化学气相沉积法在一种贫氢、富氩的反应气体中合成UNCD膜.扫描电子显微镜分析表明,合成的UNCD膜表面光滑平整,晶粒为纳米尺度,断面结构致密.X射线衍射分析显示,超纳米晶金刚石薄膜主要是以(220)取向为主的多晶体结构,计算得到的平均晶粒尺寸为10 nm.拉曼光谱分析呈现出典型的超纳米晶金刚石特性,膜中存在一定的sp2相.UNCD的光学透过率测试显示:在波长≥4 μm范围内,光学透过率≥60％.
超納米晶金剛石(UNCD)在短毫米波特彆是太赫玆真空器件輸能窗中具有潛在的應用價值.本文介紹瞭UNCD膜的製備工藝和性能錶徵.利用微波等離子體化學氣相沉積法在一種貧氫、富氬的反應氣體中閤成UNCD膜.掃描電子顯微鏡分析錶明,閤成的UNCD膜錶麵光滑平整,晶粒為納米呎度,斷麵結構緻密.X射線衍射分析顯示,超納米晶金剛石薄膜主要是以(220)取嚮為主的多晶體結構,計算得到的平均晶粒呎吋為10 nm.拉曼光譜分析呈現齣典型的超納米晶金剛石特性,膜中存在一定的sp2相.UNCD的光學透過率測試顯示:在波長≥4 μm範圍內,光學透過率≥60％.
초납미정금강석(UNCD)재단호미파특별시태혁자진공기건수능창중구유잠재적응용개치.본문개소료UNCD막적제비공예화성능표정.이용미파등리자체화학기상침적법재일충빈경、부아적반응기체중합성UNCD막.소묘전자현미경분석표명,합성적UNCD막표면광활평정,정립위납미척도,단면결구치밀.X사선연사분석현시,초납미정금강석박막주요시이(220)취향위주적다정체결구,계산득도적평균정립척촌위10 nm.랍만광보분석정현출전형적초납미정금강석특성,막중존재일정적sp2상.UNCD적광학투과솔측시현시:재파장≥4 μm범위내,광학투과솔≥60％.
