强激光与粒子束
彊激光與粒子束
강격광여입자속
HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
2014年
5期
228-231
,共4页
何世峰%涂昱淳%冯志祥%岳帅鹏%王风丽%朱京涛
何世峰%塗昱淳%馮誌祥%嶽帥鵬%王風麗%硃京濤
하세봉%도욱순%풍지상%악수붕%왕풍려%주경도
应力%多层膜%磁控溅射%极紫外
應力%多層膜%磁控濺射%極紫外
응력%다층막%자공천사%겁자외
stress%multilayer%magnetron sputtering%extreme ultraviolet
为制备硼边附近6.7 nm波长的极紫外高反射率多层膜反射镜,研究了Mo2C/B4C,Mo/B4C周期多层膜,重点解决薄膜应力难题.采用直流磁控溅射技术制备了膜层厚度为30 nm的Mo,Mo2C,B4C单层膜,周期厚度为3.5 nm,30对的Mo2 C/B4C,Mo/B4C周期多层膜.利用台阶仪测试了镀膜前后基底面形,计算并比较了不同薄膜样品的应力值.结果表明Mo2 C/B4C多层膜压应力要远小于Mo/B4C多层膜,且成膜质量与Mo/B4C相当.因此Mo2C/B4C是应用于6.7 nm反射镜较好的多层膜材料组合.
為製備硼邊附近6.7 nm波長的極紫外高反射率多層膜反射鏡,研究瞭Mo2C/B4C,Mo/B4C週期多層膜,重點解決薄膜應力難題.採用直流磁控濺射技術製備瞭膜層厚度為30 nm的Mo,Mo2C,B4C單層膜,週期厚度為3.5 nm,30對的Mo2 C/B4C,Mo/B4C週期多層膜.利用檯階儀測試瞭鍍膜前後基底麵形,計算併比較瞭不同薄膜樣品的應力值.結果錶明Mo2 C/B4C多層膜壓應力要遠小于Mo/B4C多層膜,且成膜質量與Mo/B4C相噹.因此Mo2C/B4C是應用于6.7 nm反射鏡較好的多層膜材料組閤.
위제비붕변부근6.7 nm파장적겁자외고반사솔다층막반사경,연구료Mo2C/B4C,Mo/B4C주기다층막,중점해결박막응력난제.채용직류자공천사기술제비료막층후도위30 nm적Mo,Mo2C,B4C단층막,주기후도위3.5 nm,30대적Mo2 C/B4C,Mo/B4C주기다층막.이용태계의측시료도막전후기저면형,계산병비교료불동박막양품적응력치.결과표명Mo2 C/B4C다층막압응력요원소우Mo/B4C다층막,차성막질량여Mo/B4C상당.인차Mo2C/B4C시응용우6.7 nm반사경교호적다층막재료조합.
