高电压技术
高電壓技術
고전압기술
HIGH VOLTAGE ENGINEERING
2014年
4期
1091-1096
,共6页
杨琳%聂建新%任明%张垒垒%金兆鑫
楊琳%聶建新%任明%張壘壘%金兆鑫
양림%섭건신%임명%장루루%금조흠
电磁轨道发射器%C形电枢%接触力%临界速度%轨道挠度%动态响应
電磁軌道髮射器%C形電樞%接觸力%臨界速度%軌道撓度%動態響應
전자궤도발사기%C형전추%접촉력%림계속도%궤도뇨도%동태향응
electromagnetic launcher%C-shaped armature%contact force%critical velocity%rail deflection%dynamic response
为进一步提高电磁轨道发射器性能,应用LS-DYNA建立电磁轨道发射有限元模型,研究了在C形电枢电磁轨道发射过程中电枢与轨道的接触问题.设计了3种曲率半径的内凹C形电枢与同一曲率半径的轨道,研究了各组合的动态力学响应.数值模拟结果显示:3种曲率半径的内凹C形电枢与轨道的接触力在0～0.1 ms期间快速上升;从0.1 ms到大约0.74 ms期间,接触力一直在振荡,且幅度趋于变小;在0.74 ms的时候,电枢达到临界速度,接触力发生较大的振荡;0.755 ms时均发生了明显的波动,到达局部极小值.3种电枢接触面压力分布大致相同;轨道挠度曲线非常相似,且在电枢运动过后等值线图几乎没区别.以接触压力的突然大幅波动为标志电枢达到临界速度,且此后电枢与轨道的接触变得不稳定.内凹型曲面电枢与轨道的曲率配合情况对电枢与轨道的动态结构响应影响不大.
為進一步提高電磁軌道髮射器性能,應用LS-DYNA建立電磁軌道髮射有限元模型,研究瞭在C形電樞電磁軌道髮射過程中電樞與軌道的接觸問題.設計瞭3種麯率半徑的內凹C形電樞與同一麯率半徑的軌道,研究瞭各組閤的動態力學響應.數值模擬結果顯示:3種麯率半徑的內凹C形電樞與軌道的接觸力在0～0.1 ms期間快速上升;從0.1 ms到大約0.74 ms期間,接觸力一直在振盪,且幅度趨于變小;在0.74 ms的時候,電樞達到臨界速度,接觸力髮生較大的振盪;0.755 ms時均髮生瞭明顯的波動,到達跼部極小值.3種電樞接觸麵壓力分佈大緻相同;軌道撓度麯線非常相似,且在電樞運動過後等值線圖幾乎沒區彆.以接觸壓力的突然大幅波動為標誌電樞達到臨界速度,且此後電樞與軌道的接觸變得不穩定.內凹型麯麵電樞與軌道的麯率配閤情況對電樞與軌道的動態結構響應影響不大.
위진일보제고전자궤도발사기성능,응용LS-DYNA건립전자궤도발사유한원모형,연구료재C형전추전자궤도발사과정중전추여궤도적접촉문제.설계료3충곡솔반경적내요C형전추여동일곡솔반경적궤도,연구료각조합적동태역학향응.수치모의결과현시:3충곡솔반경적내요C형전추여궤도적접촉력재0～0.1 ms기간쾌속상승;종0.1 ms도대약0.74 ms기간,접촉력일직재진탕,차폭도추우변소;재0.74 ms적시후,전추체도림계속도,접촉력발생교대적진탕;0.755 ms시균발생료명현적파동,도체국부겁소치.3충전추접촉면압력분포대치상동;궤도뇨도곡선비상상사,차재전추운동과후등치선도궤호몰구별.이접촉압력적돌연대폭파동위표지전추체도림계속도,차차후전추여궤도적접촉변득불은정.내요형곡면전추여궤도적곡솔배합정황대전추여궤도적동태결구향응영향불대.
