有色金属工程
有色金屬工程
유색금속공정
Nonferrous Metals Engineering
2014年
3期
27-29,35
,共4页
金世伟%康敏%王颖%陈超%邵越
金世偉%康敏%王穎%陳超%邵越
금세위%강민%왕영%진초%소월
电沉积%Ni-P 合金镀层%显微硬度%胞状结构
電沉積%Ni-P 閤金鍍層%顯微硬度%胞狀結構
전침적%Ni-P 합금도층%현미경도%포상결구
用电沉积的方法在45钢基体上制备 Ni-P 合金，研究镀层的外观形貌、相结构、镀层厚度、表面粗糙度和显微硬度。结果表明，电流密度在5.0~8.0 A/dm2，镀层胞状结构的平均直径与电沉积时间呈正相关，所制备的镀层均为非晶态结构。镀层表面粗糙度随着时间的增加整体上表现出下降趋势，最小值为0.279μm。镀层的显微硬度随着时间的增加表现出先下降后上升的趋势，最大值为643.51 HV。
用電沉積的方法在45鋼基體上製備 Ni-P 閤金，研究鍍層的外觀形貌、相結構、鍍層厚度、錶麵粗糙度和顯微硬度。結果錶明，電流密度在5.0~8.0 A/dm2，鍍層胞狀結構的平均直徑與電沉積時間呈正相關，所製備的鍍層均為非晶態結構。鍍層錶麵粗糙度隨著時間的增加整體上錶現齣下降趨勢，最小值為0.279μm。鍍層的顯微硬度隨著時間的增加錶現齣先下降後上升的趨勢，最大值為643.51 HV。
용전침적적방법재45강기체상제비 Ni-P 합금，연구도층적외관형모、상결구、도층후도、표면조조도화현미경도。결과표명，전류밀도재5.0~8.0 A/dm2，도층포상결구적평균직경여전침적시간정정상관，소제비적도층균위비정태결구。도층표면조조도수착시간적증가정체상표현출하강추세，최소치위0.279μm。도층적현미경도수착시간적증가표현출선하강후상승적추세，최대치위643.51 HV。
