电镀与环保
電鍍與環保
전도여배보
ELECTROPLATING & POLLUTION CONTROL
2014年
4期
26-29
,共4页
韩啸%陈吉%孙冬来%吴新春%叶珊珊
韓嘯%陳吉%孫鼕來%吳新春%葉珊珊
한소%진길%손동래%오신춘%협산산
Ni-W合金镀层%脉冲电流密度%耐蚀性
Ni-W閤金鍍層%脈遲電流密度%耐蝕性
Ni-W합금도층%맥충전류밀도%내식성
Ni-W alloy coating%pulse current density%corrosion resistance
采用脉冲电沉积方法在黄铜基体上制备Ni-W合金镀层.研究了脉冲电流密度对镀层的表面形貌、微观结构及耐蚀性的影响.当脉冲电流密度小于15 A/dm2时,Ni-W合金镀层主要由纳米晶和非晶的混合物构成;当脉冲电流密度大于20 A/dm2时,镀层转变为完全非晶.脉冲电流密度为20 A/dm2时制备的Ni-W合金镀层在质量分数为3.5％的NaCl溶液中的耐蚀性最好,自腐蚀电流密度最小,约为2.532 μA/cm2;自腐蚀电位最正,约为-327 mV;电荷转移电阻最大,约为5 412 Ω/cm2.所有Ni-W合金镀层的表面均致密平整,W的质量分数约为(40.5±3.5)％.
採用脈遲電沉積方法在黃銅基體上製備Ni-W閤金鍍層.研究瞭脈遲電流密度對鍍層的錶麵形貌、微觀結構及耐蝕性的影響.噹脈遲電流密度小于15 A/dm2時,Ni-W閤金鍍層主要由納米晶和非晶的混閤物構成;噹脈遲電流密度大于20 A/dm2時,鍍層轉變為完全非晶.脈遲電流密度為20 A/dm2時製備的Ni-W閤金鍍層在質量分數為3.5％的NaCl溶液中的耐蝕性最好,自腐蝕電流密度最小,約為2.532 μA/cm2;自腐蝕電位最正,約為-327 mV;電荷轉移電阻最大,約為5 412 Ω/cm2.所有Ni-W閤金鍍層的錶麵均緻密平整,W的質量分數約為(40.5±3.5)％.
채용맥충전침적방법재황동기체상제비Ni-W합금도층.연구료맥충전류밀도대도층적표면형모、미관결구급내식성적영향.당맥충전류밀도소우15 A/dm2시,Ni-W합금도층주요유납미정화비정적혼합물구성;당맥충전류밀도대우20 A/dm2시,도층전변위완전비정.맥충전류밀도위20 A/dm2시제비적Ni-W합금도층재질량분수위3.5％적NaCl용액중적내식성최호,자부식전류밀도최소,약위2.532 μA/cm2;자부식전위최정,약위-327 mV;전하전이전조최대,약위5 412 Ω/cm2.소유Ni-W합금도층적표면균치밀평정,W적질량분수약위(40.5±3.5)％.
