光学精密工程
光學精密工程
광학정밀공정
OPTICS AND PRECISION ENGINEERING
2014年
7期
1732-1736
,共5页
韩素立%陈波%尼启良%张宏吉
韓素立%陳波%尼啟良%張宏吉
한소립%진파%니계량%장굉길
极紫外成像%光子计数探测器%感应位敏阳极%Ge膜电阻%电子云扩散
極紫外成像%光子計數探測器%感應位敏暘極%Ge膜電阻%電子雲擴散
겁자외성상%광자계수탐측기%감응위민양겁%Ge막전조%전자운확산
ultraviolet imaging%photon counting detector%induced-charge position-sensitive anode%Ge film resistance%electron cloud diffusion
针对基于感应位敏阳极的光子计数成像探测器中非晶态Ge(α-Ge)膜的方块电阻对探测器成像性能的影响,研究了方块电阻的选配范围和方法.由于方块电阻的大小会影响Ge膜上的电子云的扩散特性从而影响探测器的计数率和分辨率,故本文根据菲克(Fick)扩散定律分析了吸收边界条件下非晶态薄膜上电子云的扩散特性.确定了电子云扩散时间与Ge膜方块电阻之间的数学关系,推导获得了探测器高质量成像时非晶态Ge膜方块电阻的阻值为30～2 700 MΩ/□.采用具有不同方块电阻的感应位敏阳极进行了实际成像实验,结果表明:当Ge膜方块电阻在上述范围时,光子计数探测器在计数率为53 kc/s时分辨率可以达到0.5 mm.实验结果证明了推导得出的方块电阻选配范围的正确性.
針對基于感應位敏暘極的光子計數成像探測器中非晶態Ge(α-Ge)膜的方塊電阻對探測器成像性能的影響,研究瞭方塊電阻的選配範圍和方法.由于方塊電阻的大小會影響Ge膜上的電子雲的擴散特性從而影響探測器的計數率和分辨率,故本文根據菲剋(Fick)擴散定律分析瞭吸收邊界條件下非晶態薄膜上電子雲的擴散特性.確定瞭電子雲擴散時間與Ge膜方塊電阻之間的數學關繫,推導穫得瞭探測器高質量成像時非晶態Ge膜方塊電阻的阻值為30～2 700 MΩ/□.採用具有不同方塊電阻的感應位敏暘極進行瞭實際成像實驗,結果錶明:噹Ge膜方塊電阻在上述範圍時,光子計數探測器在計數率為53 kc/s時分辨率可以達到0.5 mm.實驗結果證明瞭推導得齣的方塊電阻選配範圍的正確性.
침대기우감응위민양겁적광자계수성상탐측기중비정태Ge(α-Ge)막적방괴전조대탐측기성상성능적영향,연구료방괴전조적선배범위화방법.유우방괴전조적대소회영향Ge막상적전자운적확산특성종이영향탐측기적계수솔화분변솔,고본문근거비극(Fick)확산정률분석료흡수변계조건하비정태박막상전자운적확산특성.학정료전자운확산시간여Ge막방괴전조지간적수학관계,추도획득료탐측기고질량성상시비정태Ge막방괴전조적조치위30～2 700 MΩ/□.채용구유불동방괴전조적감응위민양겁진행료실제성상실험,결과표명:당Ge막방괴전조재상술범위시,광자계수탐측기재계수솔위53 kc/s시분변솔가이체도0.5 mm.실험결과증명료추도득출적방괴전조선배범위적정학성.
