强激光与粒子束
彊激光與粒子束
강격광여입자속
HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
2014年
8期
252-256
,共5页
潘立丁%石瑞英%龚敏%刘杰
潘立丁%石瑞英%龔敏%劉傑
반립정%석서영%공민%류걸
多栅NMOS%转移特性%不均匀辐照%总剂量效应%计算机仿真
多柵NMOS%轉移特性%不均勻輻照%總劑量效應%計算機倣真
다책NMOS%전이특성%불균균복조%총제량효응%계산궤방진
multi-finger NMOS%transfer characteristics%non-uniform irradiation%total dose effects%computer simulation
在研究0.5μm多栅NMOS场效应管γ辐照总剂量效应实验时,发现部分多栅NMOS器件辐照前后的转移特性曲线出现交叉现象,相关的解释鲜见报道.经过分析提出假设:部分多栅NMOS在γ辐照实验过程中各栅极受到剂量不均匀的辐照,导致辐照前后转移特性曲线出现交叉现象.计算机仿真结果表明:受到剂量不均匀的辐照后,多栅NMOS各栅极氧化层陷阱电荷和硅二氧化硅界面电荷浓度不一致,使各栅极阈值电压不同步漂移,导致器件跨导退化和转移特性曲线交叉.通过仿真验证能够说明,所提出的假设合理地解释了实验中的现象.
在研究0.5μm多柵NMOS場效應管γ輻照總劑量效應實驗時,髮現部分多柵NMOS器件輻照前後的轉移特性麯線齣現交扠現象,相關的解釋鮮見報道.經過分析提齣假設:部分多柵NMOS在γ輻照實驗過程中各柵極受到劑量不均勻的輻照,導緻輻照前後轉移特性麯線齣現交扠現象.計算機倣真結果錶明:受到劑量不均勻的輻照後,多柵NMOS各柵極氧化層陷阱電荷和硅二氧化硅界麵電荷濃度不一緻,使各柵極閾值電壓不同步漂移,導緻器件跨導退化和轉移特性麯線交扠.通過倣真驗證能夠說明,所提齣的假設閤理地解釋瞭實驗中的現象.
재연구0.5μm다책NMOS장효응관γ복조총제량효응실험시,발현부분다책NMOS기건복조전후적전이특성곡선출현교차현상,상관적해석선견보도.경과분석제출가설:부분다책NMOS재γ복조실험과정중각책겁수도제량불균균적복조,도치복조전후전이특성곡선출현교차현상.계산궤방진결과표명:수도제량불균균적복조후,다책NMOS각책겁양화층함정전하화규이양화규계면전하농도불일치,사각책겁역치전압불동보표이,도치기건과도퇴화화전이특성곡선교차.통과방진험증능구설명,소제출적가설합리지해석료실험중적현상.
