化工机械
化工機械
화공궤계
CHEMICAL ENGINEERING & MACHINERY
2014年
4期
423-426
,共4页
朱海%吴向阳%彭东辉%韩婕%徐静安
硃海%吳嚮暘%彭東輝%韓婕%徐靜安
주해%오향양%팽동휘%한첩%서정안
涂层导体%哈氏合金C-276%基带%电化学抛光%均匀设计
塗層導體%哈氏閤金C-276%基帶%電化學拋光%均勻設計
도층도체%합씨합금C-276%기대%전화학포광%균균설계
coated conductor%Hastelloy C-276%substrate%electrochemical polishing%uniform design
为改善哈氏合金C-276基带表面质量,以磷酸-硫酸及添加剂体系作为电解抛光液,采用均匀实验设计方法,对基带进行电解抛光试验,利用原子力显微镜(AFM)对样品表面形貌进行表征,并用DPS(Data Processing System)软件对抛光工艺进行逐步回归优化.优化结果表明,在室温下,采用磷酸(85％)、硫酸(98％)体积比为27∶50及适量比例添加剂组成的电解液抛光效果较好,抛光后基带表面均方根粗糙度(Rms)在25μm×25μm范围内可降低到10nm以下.
為改善哈氏閤金C-276基帶錶麵質量,以燐痠-硫痠及添加劑體繫作為電解拋光液,採用均勻實驗設計方法,對基帶進行電解拋光試驗,利用原子力顯微鏡(AFM)對樣品錶麵形貌進行錶徵,併用DPS(Data Processing System)軟件對拋光工藝進行逐步迴歸優化.優化結果錶明,在室溫下,採用燐痠(85％)、硫痠(98％)體積比為27∶50及適量比例添加劑組成的電解液拋光效果較好,拋光後基帶錶麵均方根粗糙度(Rms)在25μm×25μm範圍內可降低到10nm以下.
위개선합씨합금C-276기대표면질량,이린산-류산급첨가제체계작위전해포광액,채용균균실험설계방법,대기대진행전해포광시험,이용원자력현미경(AFM)대양품표면형모진행표정,병용DPS(Data Processing System)연건대포광공예진행축보회귀우화.우화결과표명,재실온하,채용린산(85％)、류산(98％)체적비위27∶50급괄량비례첨가제조성적전해액포광효과교호,포광후기대표면균방근조조도(Rms)재25μm×25μm범위내가강저도10nm이하.
