材料导报
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재료도보
MATERIALS REVIEW
2014年
16期
111-116
,共6页
兰龙%谭俊%吴迪%黄曾辉%曾其彬
蘭龍%譚俊%吳迪%黃曾輝%曾其彬
란룡%담준%오적%황증휘%증기빈
喷射电沉积%Ni-ZrO2复合镀层%表面形貌%硬度
噴射電沉積%Ni-ZrO2複閤鍍層%錶麵形貌%硬度
분사전침적%Ni-ZrO2복합도층%표면형모%경도
jet electrodeposition%Ni-ZrO2 composite coatings%surface morphology%hardness
采用喷射电沉积技术在45钢基体上制备了Ni及Ni-ZrO2复合镀层,并对各种镀层进行扫描电子显微镜(SEM)表面形貌观察、能谱分析(EDS)、X射线衍射仪(XRD)晶粒尺寸测定以及镀层显微硬度测定.比较了不同电流密度、温度和纳米颗粒浓度对镀层表面形貌和硬度的影响规律.结果表明:电流密度由0.55 A/cm2提高到1.00 A/cm2后,镀层表面越粗糙,晶粒尺寸由15 nm增大到23 nm,显微硬度由571HV降低到364HV;温度由20℃升高到50℃后,表面呈现先变粗糙后变平整趋势,且镀层中Ni含量上升,Fe含量下降,镀层硬度由551HV降低到364 HV; ZrO2纳米颗粒质量浓度由0 g/L提高到25 g/L时,表面仍呈现先变平整后变粗糙趋势,镀层晶粒尺寸由22nm降低到13 nm,硬度由384HV提高到521HV.
採用噴射電沉積技術在45鋼基體上製備瞭Ni及Ni-ZrO2複閤鍍層,併對各種鍍層進行掃描電子顯微鏡(SEM)錶麵形貌觀察、能譜分析(EDS)、X射線衍射儀(XRD)晶粒呎吋測定以及鍍層顯微硬度測定.比較瞭不同電流密度、溫度和納米顆粒濃度對鍍層錶麵形貌和硬度的影響規律.結果錶明:電流密度由0.55 A/cm2提高到1.00 A/cm2後,鍍層錶麵越粗糙,晶粒呎吋由15 nm增大到23 nm,顯微硬度由571HV降低到364HV;溫度由20℃升高到50℃後,錶麵呈現先變粗糙後變平整趨勢,且鍍層中Ni含量上升,Fe含量下降,鍍層硬度由551HV降低到364 HV; ZrO2納米顆粒質量濃度由0 g/L提高到25 g/L時,錶麵仍呈現先變平整後變粗糙趨勢,鍍層晶粒呎吋由22nm降低到13 nm,硬度由384HV提高到521HV.
채용분사전침적기술재45강기체상제비료Ni급Ni-ZrO2복합도층,병대각충도층진행소묘전자현미경(SEM)표면형모관찰、능보분석(EDS)、X사선연사의(XRD)정립척촌측정이급도층현미경도측정.비교료불동전류밀도、온도화납미과립농도대도층표면형모화경도적영향규률.결과표명:전류밀도유0.55 A/cm2제고도1.00 A/cm2후,도층표면월조조,정립척촌유15 nm증대도23 nm,현미경도유571HV강저도364HV;온도유20℃승고도50℃후,표면정현선변조조후변평정추세,차도층중Ni함량상승,Fe함량하강,도층경도유551HV강저도364 HV; ZrO2납미과립질량농도유0 g/L제고도25 g/L시,표면잉정현선변평정후변조조추세,도층정립척촌유22nm강저도13 nm,경도유384HV제고도521HV.
