电镀与精饰
電鍍與精飾
전도여정식
PLATING & FINISHING
2014年
10期
12-16
,共5页
陈尔跃%杨晓超%徐娟%郭祥峰
陳爾躍%楊曉超%徐娟%郭祥峰
진이약%양효초%서연%곽상봉
(Ni-P)-SiO2%化学复合镀%分散剂%纳米SiO2%镀层
(Ni-P)-SiO2%化學複閤鍍%分散劑%納米SiO2%鍍層
(Ni-P)-SiO2%화학복합도%분산제%납미SiO2%도층
(Ni-P)-SiO2%composite electroless plating%dispersant%nano-SiO2%coating
在铜表面上的(Ni-P)-SiO2化学复合镀中,将Al2(SO4)、CoSO4和CrCl3作为纳米SiO2分散剂添加到镀液中.由分光光度计测定发现少量金属盐对纳米SiO2粒子在镀液中的分散稳定性均有一定程度提高.通过光电子能谱检测发现,Al2(SO4)3作为纳米SiO2分散剂的(Ni-P)-SiO2化学复合镀层中纳米SiO2沉积效果优于其他分散剂.0～8nm深度刻蚀检测表明镀层中纳米SiO2质量分数稳定.实验表明,以Al2(SO4)3作为分散剂最佳质量浓度为3.06～ 4.08 g/L.
在銅錶麵上的(Ni-P)-SiO2化學複閤鍍中,將Al2(SO4)、CoSO4和CrCl3作為納米SiO2分散劑添加到鍍液中.由分光光度計測定髮現少量金屬鹽對納米SiO2粒子在鍍液中的分散穩定性均有一定程度提高.通過光電子能譜檢測髮現,Al2(SO4)3作為納米SiO2分散劑的(Ni-P)-SiO2化學複閤鍍層中納米SiO2沉積效果優于其他分散劑.0～8nm深度刻蝕檢測錶明鍍層中納米SiO2質量分數穩定.實驗錶明,以Al2(SO4)3作為分散劑最佳質量濃度為3.06～ 4.08 g/L.
재동표면상적(Ni-P)-SiO2화학복합도중,장Al2(SO4)、CoSO4화CrCl3작위납미SiO2분산제첨가도도액중.유분광광도계측정발현소량금속염대납미SiO2입자재도액중적분산은정성균유일정정도제고.통과광전자능보검측발현,Al2(SO4)3작위납미SiO2분산제적(Ni-P)-SiO2화학복합도층중납미SiO2침적효과우우기타분산제.0～8nm심도각식검측표명도층중납미SiO2질량분수은정.실험표명,이Al2(SO4)3작위분산제최가질량농도위3.06～ 4.08 g/L.
