冶金分析
冶金分析
야금분석
METALLURGICAL ANALYSIS
2014年
9期
29-33
,共5页
刘春%王丹%张翼明%郭昱
劉春%王丹%張翼明%郭昱
류춘%왕단%장익명%곽욱
富铌渣%二氧化硅%高氯酸%重量法%电感耦合等离子体原子发射光谱法
富鈮渣%二氧化硅%高氯痠%重量法%電感耦閤等離子體原子髮射光譜法
부니사%이양화규%고록산%중량법%전감우합등리자체원자발사광보법
niobium-enriched slag%silicon dioxide%perchloric acid%gravimetry%inductively coupled plasma atomic emission spectrometry
试样在750℃高温下被碳酸钠-过氧化钠熔融,用盐酸酸化,高氯酸冒烟使硅酸脱水生成二氧化硅胶体,过滤、洗涤后,将沉淀于950℃灼烧至恒重,在硫酸介质中用氢氟酸挥硅,再次灼烧恒重,差减两次恒重结果计算沉淀中二氧化硅量.应用电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)测定滤液中残留的二氧化硅量.将两部分数据加和可得富铌渣中二氧化硅总量.实验表明,恒重后的沉淀中有大量铌化合物存在,经挥硅处理其影响可忽略不计.方法用于富铌渣中二氧化硅量的测定,结果与ICP-AES一致,相对标准偏差(RSD,n=10)为0.48％,加标回收率在99％～100％之间.
試樣在750℃高溫下被碳痠鈉-過氧化鈉鎔融,用鹽痠痠化,高氯痠冒煙使硅痠脫水生成二氧化硅膠體,過濾、洗滌後,將沉澱于950℃灼燒至恆重,在硫痠介質中用氫氟痠揮硅,再次灼燒恆重,差減兩次恆重結果計算沉澱中二氧化硅量.應用電感耦閤等離子體原子髮射光譜法(ICP-AES)測定濾液中殘留的二氧化硅量.將兩部分數據加和可得富鈮渣中二氧化硅總量.實驗錶明,恆重後的沉澱中有大量鈮化閤物存在,經揮硅處理其影響可忽略不計.方法用于富鈮渣中二氧化硅量的測定,結果與ICP-AES一緻,相對標準偏差(RSD,n=10)為0.48％,加標迴收率在99％～100％之間.
시양재750℃고온하피탄산납-과양화납용융,용염산산화,고록산모연사규산탈수생성이양화규효체,과려、세조후,장침정우950℃작소지항중,재류산개질중용경불산휘규,재차작소항중,차감량차항중결과계산침정중이양화규량.응용전감우합등리자체원자발사광보법(ICP-AES)측정려액중잔류적이양화규량.장량부분수거가화가득부니사중이양화규총량.실험표명,항중후적침정중유대량니화합물존재,경휘규처리기영향가홀략불계.방법용우부니사중이양화규량적측정,결과여ICP-AES일치,상대표준편차(RSD,n=10)위0.48％,가표회수솔재99％～100％지간.
