材料导报
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재료도보
MATERIALS REVIEW
2014年
20期
6-9
,共4页
李姗%杨恢东%汪文明%雷飞%闵文骏
李姍%楊恢東%汪文明%雷飛%閔文駿
리산%양회동%왕문명%뢰비%민문준
氩气压强%柔性衬底%ZnO∶Al薄膜%直流磁控溅射
氬氣壓彊%柔性襯底%ZnO∶Al薄膜%直流磁控濺射
아기압강%유성츤저%ZnO∶Al박막%직류자공천사
argon pressure%flexible substrate%ZnO∶Al films%DC magnetron sputtering
采用直流磁控溅射技术在柔性衬底聚酰亚胺(PI)上制备ZnO∶Al透明导电薄膜,研究氢气压强对样品薄膜结构、形貌和光电性能的影响,并与玻璃衬底进行了对比.结果表明:所有制备的ZAO薄膜都是六方纤锌矿结构且具有高度的c轴择优取向;氩气压强对样品薄膜的性能有较大影响,具体表现在:随着压强的增大,晶粒尺寸先增大后减小,方块电阻值先减小后增大,最小值出现在压强为12 Pa,其值为12 Ω/sq,600～800nm薄膜的相对透射率为94％,高于玻璃衬底的相对透射率.
採用直流磁控濺射技術在柔性襯底聚酰亞胺(PI)上製備ZnO∶Al透明導電薄膜,研究氫氣壓彊對樣品薄膜結構、形貌和光電性能的影響,併與玻璃襯底進行瞭對比.結果錶明:所有製備的ZAO薄膜都是六方纖鋅礦結構且具有高度的c軸擇優取嚮;氬氣壓彊對樣品薄膜的性能有較大影響,具體錶現在:隨著壓彊的增大,晶粒呎吋先增大後減小,方塊電阻值先減小後增大,最小值齣現在壓彊為12 Pa,其值為12 Ω/sq,600～800nm薄膜的相對透射率為94％,高于玻璃襯底的相對透射率.
채용직류자공천사기술재유성츤저취선아알(PI)상제비ZnO∶Al투명도전박막,연구경기압강대양품박막결구、형모화광전성능적영향,병여파리츤저진행료대비.결과표명:소유제비적ZAO박막도시륙방섬자광결구차구유고도적c축택우취향;아기압강대양품박막적성능유교대영향,구체표현재:수착압강적증대,정립척촌선증대후감소,방괴전조치선감소후증대,최소치출현재압강위12 Pa,기치위12 Ω/sq,600～800nm박막적상대투사솔위94％,고우파리츤저적상대투사솔.
