功能材料
功能材料
공능재료
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS
2012年
23期
3322-3324,3328
,共4页
苏虹%査钢强%高俊宁%介万奇
囌虹%査鋼彊%高俊寧%介萬奇
소홍%사강강%고준저%개만기
近空间升华法%CdZnTe厚膜%薄膜探测器%光电性能
近空間升華法%CdZnTe厚膜%薄膜探測器%光電性能
근공간승화법%CdZnTe후막%박막탐측기%광전성능
closed-spaced sublimation%CdZnTe thick film%thin film detector%photoelectric properties
采用近空间升华法在FTO玻璃衬底上制备CdZnTe多晶厚膜,并采用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见光谱仪、I-V测试仪等对CdZnTe厚膜的表面形貌、成分、结构以及光电性能进行分析表征。结果表明,所制备的CdZnTe膜均匀致密,随生长时间的延长,晶粒尺寸明显增大;不同厚度的CdZnTe膜均表现出沿(111)晶面的择优生长;CdZnTe厚膜的禁带宽度在1.53~1.56eV之间;电阻率在1010Ω.cm数量级,具有较好的光电响应,试制的薄膜探测器可用作计数型探测器。
採用近空間升華法在FTO玻璃襯底上製備CdZnTe多晶厚膜,併採用掃描電鏡(SEM)、能譜儀(EDS)、X射線衍射儀(XRD)、紫外-可見光譜儀、I-V測試儀等對CdZnTe厚膜的錶麵形貌、成分、結構以及光電性能進行分析錶徵。結果錶明,所製備的CdZnTe膜均勻緻密,隨生長時間的延長,晶粒呎吋明顯增大;不同厚度的CdZnTe膜均錶現齣沿(111)晶麵的擇優生長;CdZnTe厚膜的禁帶寬度在1.53~1.56eV之間;電阻率在1010Ω.cm數量級,具有較好的光電響應,試製的薄膜探測器可用作計數型探測器。
채용근공간승화법재FTO파리츤저상제비CdZnTe다정후막,병채용소묘전경(SEM)、능보의(EDS)、X사선연사의(XRD)、자외-가견광보의、I-V측시의등대CdZnTe후막적표면형모、성분、결구이급광전성능진행분석표정。결과표명,소제비적CdZnTe막균균치밀,수생장시간적연장,정립척촌명현증대;불동후도적CdZnTe막균표현출연(111)정면적택우생장;CdZnTe후막적금대관도재1.53~1.56eV지간;전조솔재1010Ω.cm수량급,구유교호적광전향응,시제적박막탐측기가용작계수형탐측기。
Polycrystalline CdZnTe thick films were deposited on glass substrates via close-spaced sublimation (CSS) technique. The morphology, composition, micro-structure, optical and electrical properties of CdZnTe thick films were investigated by SEM, EDS, XRD, UV spectrophotometer and I-V measurements. It is found that the grains are uniform, also, the grain sizes increase significantly with increasing deposition time. The XRD results show that all the thick films possess cubic structure, and tend to grow along the orientation of (111) face. The optical energy gap of all the thick films are in the region of 1.53-1.56eV. The resistivity of the films are 10^10Ω cm orders of magnitude, and have good optical response. It can be used for counting detectors.